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《第２６２回講演会》

日　時 ：
２０２４年１２月１２日（木）１３：００～１６：５０
会　場 ：
オンライン開催（Zoom）
テーマ ：
『光機能材料の新潮流』（有機エレクトロニクス材料研究会共催）

[趣旨]
光の活用がますます進んできており、光応答性高分子はますます重要になっている。今回は光信号により形状を制御できるアクチュエーター素子を用いたセンサーや、近年急速に注目が集まっているシリコンフォトニクスに向けたデバイス開発に向けたポリマー材料開発とともに持続可能な素材をベースにしたフォトニクスポリマーの開発など、新たなフォトポリマーの開発とそれらの応用について４つのご講演をしていただく。

[参加費]
会員：無料（オンライン開催は人数制限なし）
非会員：3,000円、学生：2,000円　（12月5日（木）までにお振込みください）

[参加申込]
当ウェブサイトのメールフォームにてお申し込みください。

[締め切り]
2024年12月5日（木）

【プログラム】
１.
13：00
　～13：50		 「高効率EO光学変調器を用いた大容量光伝送技術の開発」
九州大学 横山 士吉　氏
将来の高速光ネットワーク技術に対応するため光変調デバイスの帯域拡大は重要である。最先端の開発状況を見ると様々な材料を使った光変調器の開発が進み、100 Gbaud(変調速度)を超える光信号生成と伝送が可能になってきている。また、10テラビット級(伝送速度)の光信号伝送の実現に向けて、産学で新たな材料研究やデバイス開発も活発化している。本稿では、高速光変調器の現状や課題、これを克服するための研究 状況を示し、光インターフェース機器の高性能化への貢献に向けた展望や課題について述べる。
＜キーワード＞高速光ネットワーク、光変調デバイス、光インターフェース、光ゾル-ゲル転移
【 13：50～14：00　休　憩（10分）】
２.
14：00
　～14：50		 「セルロースを活用した持続可能なフォトニック材料」
東京理科大学 古海 誓一　氏
石油資源は約50年後に枯渇すると予測され、石油資源の依存から脱却し、天然資源(バイオマス)より機 能材料を創り出すバイオマスリファイナリーは必要不可欠である。本講演では、セルロースを活用して、カラフルな反射特性とフレキシブルなゴム弾性を併せ持った新しいコレステリック液晶エラストマー膜の創製と応用について紹介する。このセルロースの液晶エラストマー膜に機械的な圧縮力を加えると、圧縮した部 分だけ可逆的に変色し、力やひずみだけでなく、物体表面上の微小な凹凸も可視化することができた。
＜キーワード＞セルロース液晶エラストマー、コレステリック液晶、反射特性、ゴム弾性、可逆変色
【 14：50～15：00　休　憩（10分）】
３.
15：00
　～15：50		 「フォトクロミック分子を用いた有機センサー材料の開発」
大阪公立大学 小畠 誠也　氏
フォトクロミック化合物は光に応答して分子構造が可逆に変化し、それに伴い色が変わる。その中でジアリールエテンは両異性体が熱的に安定であり、繰り返し耐久性に優れている。本講演では、このような分子を用いた紫外線センサー、温度センサー、フォトアクチュエーターについて紹介する。フォトクロミック分子を用いた紫外線センサーや温度センサーは電子回路を必要としない簡便なセンサーラベルとして利用で き、フォトアクチュエーターは微小なフォトクロミック結晶の動的形態変化である。
＜キーワード＞フォトクロミズム、紫外線センサー、温度センサー、アクチュエーター、結晶
【 15：50～16：00　休　憩（10分）】
４.
16：00
　～16：50		 「極短距離光通信の実現に向けた光集積回路の開発」
NTT先端集積デバイス研究所 松尾 慎治　氏
情報通信・情報処理で扱うデータ量の増大、消費電力の増大が大きな問題となってきており、光インターコネクションの短距離化が強く望まれている。極短距離の光通信実現のためには、送受信素子の消費電力の削減に加え、電子集積回路と光集積回路を密接に集積する光電融合技術の進展が重要であり、光集積回路としてはシリコンCMOSの加工技術を用いたシリコンフォトニクス技術と化合物半導体光デバイスの異種材料集積が注目されている。また、光導波路として低損失なポリマー導波路等の実現の重要性等について述べる。
＜キーワード＞プリンテッドエレクトロニクス、金属ナノ粒子インク、金属錯体インク
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《協賛講演会》 ＝第１８８回ラドテック研究会講演会＝

期　日 ：
２０２５年１月２３日（木）１３：００～１６：４０
会　場 ：
早稲田大学121号館 コマツ100周年記念ホール
主　催 ：
一般社団法人ラドテック研究会
【プログラム】
１.
13：00
　～13：50
質疑応答含む		 「動的光重合による分子配向と高効率高分子合成」
東京科学大学 宍戸 厚　氏
２.
13：50
　～14：40
質疑応答含む		 「有機フォトクロミック化合物の表面レリーフ形成材料への応用」
横浜国立大学 生方 俊　氏
【　14：40～15：00 　休憩　】
３.
15：00
　～15：50
質疑応答含む		 「チオール系硬化剤・増感剤の使用方法と市場動向」
堺化学工業株式会社 山内 豊直　氏
４.
15：50
　～16：40
質疑応答含む		 「加飾技術の最新動向と今後の展望」
Ｄ plus F Lab 伊藤 達朗　氏
●17：00～18：30 　賀詞交換会

※プログラムは変更になる場合がございます

[１．参 加 費 用]
10,000円（協賛団体ご所属の方）

[２．お申込み]
研究会HP（http://www.radtechjapan.org/20250123/）

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