フォトポリマー懇話会は、感光性樹脂（フォトポリマー）に関する情報を発信する学術団体です。
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《2025年度
関西コンバーティングものづくり研究会(KCM)
特別定例会》
- 日 時 ：
- ２０２５年５月２３日（金）
講演会・見学会：13：10〜16：30
技術交流会（懇親会）：16：30〜17：40 - 会 場 ：
- 島津製作所 基盤技術研究所・みらい共創ラボ
https://www.shimadzu.co.jp/aboutus/company/access/keihanna.html
[参加費]
無料 ※但し、技術交流会まで参加の場合は3,000円
(申込時に必ず参加・不参加を記入ください)
[参加申込]
KCM会長：堀邊 英夫 【hhoribe@omu.ac.jp】または
KCM事務局長：蛭田英紀（加工技術研究会）【hiruta@ctiweb.co.jp】
に直接メールください。
[申込期限]
5月20日（火）16：00厳守
| 12：20 | 開場 | ||
|---|---|---|---|
| 13：00 | 堀邊会長あいさつ | ||
| 特別講演（1） 13：10 ～13：50 |
「Shimadzu みらい共創ラボにおけるオープンイノベーション」 | ||
| （株）島津製作所 基盤技術研究所 副所長 | 北村 圭司 氏 | ||
| 講演要旨： 島津製作所の基盤技術研究所内に2022年5月に開所した「Shimadzu みらい共創ラボ」は、先端分析、革新バイオ、脳五感、AI（人工知能）などの研究領域を推進する共創空間です。オープンイノベーションを通じて新しい価値を創造し、社会課題の解決を目指しています。社外の研究機関や企業との連携を強化するための公募型共同研究プログラムやコーポレートベンチャーキャピタルといった新たな取り組みや、レーザーコーティング、塗膜検査、感性計測などの研究事例についてご紹介いたします。 | |||
| 特別講演（2） 14：00 ～14：40 |
「時代を読み解く、企業経営に必要な視点」 | ||
| 日本金融経済研究所 代表理事 大阪公立大学 客員准教授 |
馬渕磨理子 氏 | ||
| 講演要旨： 年間100社の企業取材を行いながら、上場企業の社外取締役を2社務める立場から企業経営に必要な視点をお話いたします。具体的に企業価値を高める方法や賃上げの事例をご紹介いたします。 | |||
| 特別講演（3） 14：50 ～15：30 |
「新型LCMS-TQ RXシリーズを用いた水中PFAS分析における効率化」 | ||
| （株）島津製作所 分析計測事業部 Solutions COE ヘルスケアソリューションユニット インスツルメンツエキスパートG 主任 |
川上 和宏 氏 | ||
| 講演要旨： PFAS（ペルおよびポリフルオロアルキル化合物）は、炭素骨格の多くまたはすべての側鎖がフッ素化されている化合物の総称で、化学的に有用な特性を有するため、非常に多岐にわたる製品に使用されていました。しかし、化学的安定性ゆえに環境中に残存しやすく、環境汚染物質の一つとして近年急速に分析需要が高まっています。本講演では、水サンプルを中心としたPFAS分析に関するノウハウや最新技術についてご紹介するとともに、島津製作所最新のLC-MS/MSについてご紹介いたします。 | |||
| 15：30 ～16：30 |
研究所の概要説明、展示場の見学 | ||
| 16：30 ～17：40 |
技術交流会 島津製作所 基盤技術研究所・みらい共創ラボ 食堂 | ||
《第２６４回講演会》
- 日 時 ：
- ２０２５年６月１２日（木）１３：００～１７：００
- 会 場 ：
- オンライン開催（Zoom）
- テーマ ：
- 『ナノインプリント技術の新展開』
[趣旨]
微細な構造を素材表面に転写する加工技術であるナノインプリント技術は、近年、半導体デバイスやAR/VRグラス、シリコンフォトニクスの領域で大きな進展が見られており、高い関心を集めています。このような背景から、本領域で開発が進んでいる最新のナノインプリント技術に焦点を当てた４件の講演を企画しました。
[参加費]
会 員 ： 無料（オンライン開催は人数制限なし）
非会員 ： ３,０００円 学生 ： ２,０００円 （6月5日（木）までにお振り込みください）
テキストはダウンロード形式とします
[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください（2025年6月5日（木）締切）。
| １. 13：00 ～13：50 |
「ナノインプリント技術の半導体、AR/VRデバイスへの新展開」 | ||
|---|---|---|---|
| 大阪公立大学 | 平井 義彦 氏 | ||
| ナノインプリントが提唱されて今年で30年目となる。これまでに、光学用途を中心に多くの研究開発が 行われてきた。ここではその加工メカニズムについて述べるとともに、最近の新しい動向として、半導体前 工程、後工程への応用とAR/VRグラス用光導波路への応用展開について紹介する。 | |||
| ＜キーワード＞ダイレクトナノインプリント、解像性、離型、リソグラフィ、傾斜型回折格子 | |||
| 【 休憩（10分） 】 | |||
| ２. 14：00 ～14：50 |
「ワーキングスタンプ作製用UVナノインプリント樹脂」 | ||
| 東洋合成工業（株） | 大幸 武司 氏 | ||
| ナノインプリントは、メタバースの普及に伴う市場拡大の期待を背景に、AR（拡張現実）グラス用の光導 波路（Waveguide）製造において主要な技術として注目されている。Waveguideの製造においては、樹脂製のワーキングスタンプが使用されることが主流となっている。本講演ではマスターモールドの形状を忠実に再現しながら、高精度かつ耐久性を有するワーキングスタンプ作製用のUVナノインプリント樹脂について紹介する。 | |||
| ＜キーワード＞ナノインプリント、ARグラス、Waveguide、UVナノインプリント樹脂、ワーキングスタンプ | |||
| 【 休憩（10分） 】 | |||
| ３. 15：00 ～15：50 |
「UV-NILプロセス技術の開発：シリコンフォトニクスからARグラスまで」 | ||
| 東京科学大学 | 雨宮 智宏 氏 | ||
| ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は、ナノスケールのスタンプを用いた押印技術であり、従来の露光法と違って露光波長に解像度が依存しないこと、大面積転写性や高スループット性などを有していることから、半導体における次世代リソグラフィ技術の一つとして期待されている。本講演では、NILの応用先としてシリコンフォトニクスおよびARグラスに着目し、製造技術の面から、その将来展望について述べる。 | |||
| ＜キーワード＞ナノインプリントリソグラフィ、シリコンフォトニクス、ARグラス | |||
| 【 休憩（10分） 】 | |||
| ４. 16：00 ～16：50 |
「半導体デバイス製造用ナノインプリントリソグラフィの開発状況」 | ||
| キヤノン（株） | 伊藤 俊樹 氏 | ||
| 半導体デバイス製造への適用を目指して、インクジェット方式のUVナノインプリント技術を開発中である。3D NANDに始まる応用デバイスをDRAMやLogicへも拡大するためには欠陥を低減する必要がある。バブル状の欠陥を低減するため、押印時にレジスト膜中に残存する気体を消失させる技術に取り組み、速やかに透過して消失する雰囲気気体として二酸化炭素を、理論計算に基づいて選定した。さらに、押印時の巻き込み気体の体積を最小化するために、ドロップ結合型レジストとそのインプリントプロセスを開発した。 | |||
| ＜キーワード＞ナノインプリント、リソグラフィー、レジスト、半導体、インクジェット | |||
《協賛講演会》 ＝第１９０回ラドテック研究会講演会＝
- 期 日 ：
- ２０２５年６月１９日（木）１３：００～１６：００
- 会 場 ：
- 早稲田大学内コマツ100周年記念ホール
- 主 催 ：
- 一般社団法人ラドテック研究会
| １. 13：00 ～13：40 質疑応答含む |
「UV ナノインプリントリソグラフィ充填プロセスの分子動力学シミュレーション」 | ||
|---|---|---|---|
| 東京理科大学 | 安藤 格士 氏 | ||
| ２. 13：40 ～14：20 質疑応答含む |
「車載向けUV硬化型粘着シール技術開発」 | ||
| 株式会社デンソー | 岡本 真一 氏 | ||
| 【 14：20～14：40 休憩 】 | |||
| ３. 14：40 ～15：20 質疑応答含む |
「多官能エステル型２級チオール カレンズＭＴの紹介」 | ||
| 株式会社レゾナック | 原 真尚 氏 | ||
| ４. 15：20 ～16：00 質疑応答含む |
「日本接着学会の紹介（+「イオンビーム照射による小口径人工血管用材料の表面改質」）」 | ||
| 日本接着学会会長 東京科学大学 | 扇澤 敏明 氏 | ||
| ●16：00～17：00 定時社員総会 | |||
| ●17：00～18：00 懇 親 会 | |||
※プログラムは変更になる場合がございます
[１．参 加 費]
10,000円（協賛団体ご所属の方）
[２．お申込み]
研究会HP（https://radtechjapan.org/20250619-2/）よりお申し込み下さい。
《第265回フォトポリマー懇話会講演会》
- 日 時 ：
- ２０２５年６月２４日（火）１３：００～１７：５０
- 会 場 ：
- アクリエ姫路 中ホール（〒670-0836 兵庫県姫路市神屋町143-2）
およびZoomでのハイブリッド開催 - テーマ ：
- 『リソグラフィー材料に関する科学と技術の基礎』（フォトポリマー学会共催）
[要旨]
半導体業界の人材育成の一環として、リソグラフィー材料に関する科学と技術の基礎を学ぶ機会を提供する機会をフォトポリマー学会共催で企画した。
[参加費]
会 員 ： 2名まで無料、３名以上は3,000円/1名（オンライン開催は人数制限なし）
非会員 ： ３,０００円 学生 ： ２,０００円
[参加申込]
当ウェブサイトのメールフォームにてお申し込みください。
※会場参加またはZoomを要選択
[締め切り]
2025年6月17日（火）
でもご覧いただけます。 |
|||
| １. 13：00 ～13：50 （講演5分） |
「Opening remark from SPST」 | ||
|---|---|---|---|
| 兵庫県立大学 | 渡邊 健夫 氏 | ||
| ２. 13：05 ～13：10 （講演5分） |
「フォトポリマー懇話会から開会の辞」 | ||
| 大阪公立大学 | 堀邊 英夫 氏 | ||
| ３. 13：10 ～13：35 （講演25分） |
「半導体産業の歴史と化学増幅系3成分レジストの開発」 | ||
| 大阪公立大学 | 堀邊 英夫 氏 | ||
| ４. 13：35 ～14：00 （講演25分） |
「Lithography general introduction」 | ||
| imec | Dr. John Peterson 氏 | ||
| ５. 14：00 ～14：20 （講演20分） |
「i線レジストおよび非化学増幅/金属非含有レジスト」 | ||
| 光機能材料研究所 | 花畑 誠 氏 | ||
| ６. 14：40 ～15：10 （講演25分） |
「iKrF/ArF/ArFi/EUV/EB 化学増幅レジスト（PTD, NTD, 現像溶媒）」 | ||
| （株）日立ハイテク | 藤森 亨 氏 | ||
| ７. 15：10 ～15：35 （講演25分） |
「光酸発生剤 (PAG) と光分解型塩基 (PDB)」 | ||
| 富士フイルム（株） | 土村 智孝 氏 | ||
| ８. 15：35 ～16：00 （講演25分） |
「EUV Metal containing resists」 | ||
| State University of Newyork, USA | Prof. Robert Brainard 氏 | ||
| ９. 16：20 ～16：40 （講演20分） |
「レジストろ過技術」 | ||
| 日本ポール（株） | 梅田 徹 氏 | ||
| １０. 16：40 ～17：10 （講演30分） |
「BARC, SOC, TC, MHM, リンス, シュリンク材料」 | ||
| メルクエレクトロニクス（株） | 片山 朋英 氏 | ||
| １１. 17：10 ～17：45 （講演35分） |
「特別基調講演:3D積層CMOSイメージセンサーのプロセス技術」 | ||
| ソニーセミコンダクタソリューションズ（株） | 岩元 勇人 氏 | ||
| １２. 17：45 ～17：50 （講演5分） |
「閉会の辞」 | ||
| ASML Japan | 永原 誠司 氏 | ||
| １３. 18：00 ～20：00 |
懇親会（無料） | ||
| ●13. 18：00～20：00 懇親会（無料） | |||
連絡先：
岡村 晴之
大阪公立大学 大学院工学研究科 物質化学生命系専攻 応用化学分野 准教授
〒599-8531 大阪府堺市中区学園町1-1
TEL: 072-254-9291
E-mail: okamura@omu.ac.jp
＜フォトポリマー懇話会（ＴＡＰＪ）＞
事務局：〒162-8601 東京都新宿区神楽坂1-3
東京理科大学理学部第二部化学科 青木研究室内
E-mail :
(C)2007- The Technical Association of Photopolymers,Japan