総会・第２５３回講演会
日　時	２０２３（令和５）年４月２０日（木）13：00～17：00
場　所	Zoomでのオンライン開催
総　会	2022年度事業報告および決算収支報告の承認。2023年度事業計画および予算の決議。
テーマ	『先端・次世代リソグラフィ技術』
	次世代リソグラフィ技術（１件）、レジストの技術動向（２件）について講演を企画した。半導体は国家安全保障や経済安全保障上重要な技術です。この中で、リソグラフィ技術は重要な技術であり、EUVリソグラフィ技術、レジストの材料・プロセス技術量産の最新動向および今後の展開について解説頂いた。また、ご講演の後、ブレイクアウトルームで参加者と質疑応答を実施し、理解および交流を深めることができた。
講演内容	1. 「ＥＵＶリソグラフィ技術の現状およびその取り巻く環境、今後の展開」	兵庫県立大学	渡邊健夫氏
	EUVリソグラフィ（EUVL）技術は2019年より量産適用された。先端半導体製造では前工程の素子の３次元構造、並びに後工程の３次元実装が重要な技術となっている。前工程の微細加工技術ではIRDSのロードマップによると0.7 nm世代までEUVLが量産適用されることになっている。さらなる微細化に向けて、様々な技術課題がある。この技術の現状およびそれを取り組む環境、並びに次世代のリソグラフィも含めた今後の展開について紹介した。
	２．「EUVレジストにおけるストカスティック課題に対する最新動向」	富士フイルム（株）	藤森　亨氏
	２０１９年に量産適用されたEUVリソグラフィだが、その適用レイヤーは限られており、EUVリソグラフィの発展、展開はまさにこれからである。EUVリソグラフィ発展に欠かせないフォトレジスト材料への要求課題も山積であり、その課題を解決していくことが、半導体業界発展にとって極めて重要である。EUVレジスト特有のストカスティック課題に対する最新動向を紹介頂いた。
	３．「EUVレジストの軌跡と今後への期待」	JSR（株）	丸山　研氏
	EUVリソグラフィ時代が到来し数年が経った。EUV用フォトレジストは従来の化学増幅型レジスト(CAR)と、新たに注目されているメタルオキサイドレジスト(MOR)の2タイプに大別される。講演ではこれまでのEUVレジスト開発を振り返中で、上記した２タイプのレジスト開発の現状と課題について、また今後の展望についても紹介頂いた。
	ブレイクアウトルーム	全講演者
	聴講者と個々のご講演者が個別に質疑応答や意見交換をする場として「ブレイクアウトルーム」にて提供をさせて頂いた。多くの方々が講演内容についてさらに理解を深めることができた。

第２５４回講演会
日　時	２０２３年６月１６日（金）13：00～16：50
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『光反応・重合技術の新展開』
	電子材料、印刷、接着、医療など幅広い産業に利用されるフォトポリマーは、社会や市場のニーズに応えるため、より高度な機能や技術が求められている。そのため、新しい素材、光反応・重合技術も次々に提案され、基礎検討や実用化に向けたアプローチが進められている。今回、「開始剤、光反応、光重合」に関する新技術について、4名の先生方に講演頂いた。また、講演後、参加者と質疑応答を実施し、活発な議論を通して本分野の理解を深めることができた。
講演内容	1．「近赤外光を光源とする開始剤の検討とフォトポリマーへの応用」	サンアプロ株式会社	白石篤志氏
	近赤外光を光源とするフォトポリマーの開始系（ヨードニウム塩と増感色素）の研究内容に関して、基礎研究から最近のトピックスも含めて詳しく講演頂いた。また、アニオン種の影響、反応機構や用途展開に向けた課題についても議論頂いた。
	２．「動的光重合による分子配向制御」	東京工業大学	宍戸　厚氏
	機能性フィルムの創製においては、液晶をはじめとする機能性分子の精緻な配向制御が重要である。今回、新たな原理に基づく光配向法について講演頂いた。空間的な強度分布を有する非偏光を用いた光重合により、簡便なプロセスで大面積一軸分子配向や二次元分子配向パターンを誘起し、光学機能や力学機能を備えた材料を一段階で創製することが可能になっている。
	３．「新規パーオキシドフリーレドックス重合開始剤」	三井化学株式会社	髙橋一生氏
	一般的なレドックス重合開始剤はパーオキシド系を酸化剤として用いるが、保管安定性に問題があり、パーオキシドフリーの重合開始剤の開発が求められている。本講演会では、サッカリン酸化剤、アミン還元剤、銅錯体触媒を用いた新規な重合開始システムについて詳しく紹介頂いた。また、ラジカル種の構造、反応機構や歯科材料への応用用途についても説明頂いた。
	４．「光オン・デマンド合成法を用いるポリマーや医薬品中間体の合成」	神戸大学	津田明彦氏
	ホスゲンは、ポリマーや医薬品中間体の化学品合成原料として用いられているが、極めて高い毒性を持つため、製造に大きな制約がある。本講演会では、汎用有機溶媒のクロロホルムと酸素の混合物に光を照射するホスゲンの光オン・デマンド合成法について紹介頂いた。バッチおよびフロー反応システムを構築し、安全・安価・簡単かつ高効率で、ポリマーなど種々の化学品を実用スケールで合成できることを説明頂いた。

第３３回フォトポリマー講習会
日　時	２０２３年８月２４日・２５日
場　所	Zoomでのオンライン開催
	２日間にわたって基礎編、応用編の１０件の講義が行われ、８６名の聴講参加申し込みがあった。また、各日の最終プログラムとして講師ごとのブレイクアウトルームが設けられ、講師ごとの質問等も行われた。構成はフォトポリマーに関する各分野の内容を網羅し、フォトポリマー技術全般が解説された。
Ⅰ.基礎編	１．光化学の基礎と分子デザイン	成蹊大学	稲垣　昭子氏
	フォトポリマーの反応についての基礎となる光化学について、光吸収や分子の励起などの光と分子との相互作用、励起分子からのエネルギーや電子の移動、増感反応など基礎的な現象や概念を非常にわかりやすく丁寧に解説された。光反応分子の設計例として金属錯体の光化学反応、photoredox錯体とこれらを用いた酸化的還元的消光サイクルによる光触媒的有機合成反応例について説明された。
	２．光開始剤の基礎と反応	BASFジャパン（株）	鮫島かおり氏
	光開始剤の分子構造や反応についてわかりやすく解説された。各種光開始剤，特にラジカル開始剤を中心にして、活性種生成メカニズムと特徴について説明された。光硬化技術と光重合剤について俯瞰し、光集合開始剤の種類、代表的な光重合開始剤とその特性について詳細に紹介された。これらに基づいて、光重合開始剤選定と最適な使用方法についてまとめられた。
	３．ポリマーの光化学と特性	大阪公立大学	岡村　晴之氏
	高分子中の光物理化学を低分子と比較して解説され、溶液中と高分子固体中の光反応の差異についてわかりやすく説明された。また、ポリアクリレートとポリメタクリレートなどの光反応の例を比較し、それらの反応メカニズムの違いについて解説された。
	４．フォトポリマーの特性評価	大阪公立大学	堀邊　英夫氏
	４．フォトポリマーの特性評価	リソテックジャパン（株）	関口　淳氏
	８月２４日は関口氏が海外出張中のアクシデントとオンライン参加できなかったので大阪公立大学　堀邊　教授が代講され、リソグラフィー材料・技術を概説していただき、関口氏とそれらの特性について共同研究された評価結果について解説された。８月２５日に関口　淳氏が時間を変えて講義された。リソグラフィーの工程や化学増幅型レジストの課題と、脱保護反応の評価、現像中のレジストの膨潤の評価、光酸発生剤のからの酸発生挙動および光酸発生剤からの酸の拡散挙動の評価方法に関して詳しく解説していただき、評価のために改良した分析装置、最新の評価手法などの研究結果もあわせて紹介された。
	５．フォトポリマーの材料設計	信州大学	上野　巧氏
	フォトポリマープロセスについて概説し、極性変化型レジスト、分子量変化型レジストについて材料やメカニズム、特徴などについて詳細に説明され、塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点、高感度についての要因を解説した。ネガ型フォトポリマーの溶解挙動測定の難しさ、高分子の溶解について触れ、フォトポリマーに求められる要求項目、露光装置・現像方法、感光性機能、要求性能への対応の点から感光材料の設計についてまとめられた。
Ⅱ.応用編	６．コーティング分野におけるモノマーとフオトポリマーの役割と設計思想	荒川化学工業（株）	川添　圭氏
	熱硬化と光硬化の比較や、光源や光硬化システムの特徴と課題、用途・材料構成について概説された。ラジカル重合性オリゴマーやモノマーについて詳細に解説され、光開始剤と組み合わせと特性について紹介された。さらに、光硬化を利用したディスプレイや光学フィルム製造などコーティング分野での応用例について、高硬化、低カール化、干渉縞低減、低耐電防止、塗料水系化などの課題解決と技術進展について解説された。
	７．光硬化型接着剤および光アニオン硬化の接着剤への活用	（株）スリーボンド	大槻　直也氏
	身近な接着剤の紹介に始まり、接着剤の分類から「なぜ接着するのか？」について解説し、光硬化型接着剤についてラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理、物質および接着剤分野におけるそれぞれの硬化方法の長所と短所を比較され、課題のひとつである硬化収縮と反応の分子動力学シミュレーションによる解析について説明された。また、種々の影部硬化性の付与方法について解説された。その方法として光硬化シアノアクリレート接着剤や光スイッチ硬化型エポキシ樹脂接着剤ついてメカニズム・特性について詳しく解説された。加えて光硬化型接着剤の硬化収縮挙動の評価方法について紹介された。
	８．感光性耐熱材料の最近の進歩	（株）東レ	富川真佐夫氏
	ポリイミドが優れた耐熱性、機械特性、電気絶縁性をもつことから、電子材料などに用いられるエンジニアリングプラスチックとして発展し、感光性ポリイミドが出現してきた技術的背景について歴史的にも詳しく解説された。ポリイミド(PI)およびポリベンゾオキサゾール(PBO)系の材料を中心に、ポリイミドの光化学と具体的な感光材料、次世代に向けた低温硬化材料などへの取り組みを紹介された。さらに、ポリイミド/銅界面での化学、先端パッケージ用材料、ディスプレイ用途への展開など最新の開発動向についても詳しく解説された。
	９．微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	半導体とは何かにはじまり、動作原理やデバイス構造・性能を平易に解説し、半導体の市場や微細加工技術の必要性について説明された。長年の開発と実用化に至ったEUVリソグラフィプロセスについて解説された。最先端半導体加工技術となったEUVリソグラフィーの課題と今後の展望について各プロセス要因から解説された。さらに技術的課題解決に向け、EUVリソグラフィー研究開発センター（CEL）の研究成果を紹介し、レジスト評価技術の展開についても説明された。さらに将来のEUVの短波長化：BEUVの可能性や日本の半導体復興に向けた取り組みについて課題と提案を述べられた。
	１０．トピックス光クリックケミストリー：2022年ノーベル化学賞「クリックケミストリー」の展開ー	東京理科大学	有光　晃二氏
	２０２２年ノーベル化学賞が「クリックケミストリー」に授与されたことに鑑み、光クリックケミストリーとしてフォトポリマーへ展開されてきている反応を中心に解説された。光クリックケミストリーの研究の概念と展開について詳細に説明された。それを踏まえて、独自に切り拓いている光強塩基発生剤群、それらを応用した光強塩基発生剤/エポキシ系フォトポリマー、光強塩基発生剤/エピスルフィド系フォトポリマー、光強塩基発生剤/アクリル系フォトポリマー、光強塩基発生剤/過酸化物反応系、光チオール発生剤などによるクリックケミストリーの展開ついて解説された。

第２５７回講演会
日　時	２０２４年１月１８日（木）13：00～16：50
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『⾼分⼦の光分解』
	⾼分⼦の光分解はエネルギー消費の低いクリーンな⾼分⼦処理法であることから、産業廃棄プラスチクス（廃プラ）よる地球環境汚染問題の有効な解決技術として期待される。今回、「⾼分⼦の光分解」の観点から、これに関連した最先端の研究について、マイクロプラスチクスの解析や、光分解性⾼分⼦の設計、⾼分⼦微粒⼦のリサイクル、さらに宇宙空間での⾼分⼦の劣化を中⼼に４名の先⽣⽅にご講演ただいた。講演会では、参加者との活発な議論を通して、これらの研究についての知⾒を深めることができた。
講演内容	1．「促進酸化法（AOP）を⽤いた海洋マイクロプラスチックモデルの作製と特性解析」	⻑崎⼤学	中⾕久之氏
	海洋マイクロプラスチック（MP）による地球環境汚染問題の解決には、海洋から回収した MP と同じ形状や特性を持つMP の⼈⼯モデルの作成が重要な役割を果たす。本講演会では、ポリマー型光触媒及び硫酸イオンラジカルを⽤いたAOP による MP の⼈⼯モデルの作成をご紹介いただいた。海⽔中、pH 制御下での硫酸イオンラジカルを⽤いて作成したPP、PS 及び PE の MP は、均⼀な劣化挙動かつ促進性を⽰し、このことにより、モデル MP の⼤量作製が可能になり、MP の化学的、物理的及び⽣物的な特性解析への道が開かれたことが例証された。
	２．「ポリスチレン誘導体の光・熱分解 ―環境負荷低減を⽬指して―」	⼤阪公⽴⼤学	岡村晴之氏
	熱および光で架橋する部位と解架橋する部位を有するスチレン誘導体の合成と重合について、光化学実験における基礎的な知識や⾼分⼦の評価法、さらに、光分解性⾼分⼦の応⽤研究に⾄るまで幅広くご講演いただいた。特に、透過性が⾼い近⾚外光を⽤いる⾼分⼦の光分解は、不透明材料への適⽤が可能になり、サーキュラーエコノミーの実現に展開できることが⽰された。
	３．「⼒学的安定性と分解性を備えた⾼分⼦微粒⼦成型体」	信州⼤学	鈴⽊⼤介氏
	⾼分⼦微粒⼦を活⽤した新奇なマテリアルリサイクル⼿法についてご講演いただいた。メチルアクリレートからなる合成⾼分⼦微粒⼦は、微粒⼦の集合によって形成された強靭な微粒⼦フィルムを与える。このフィルムは溶媒に浸漬するだけで、⾼分⼦鎖の破断を伴うことなく、99%の⾼回収率で単⼀微粒⼦まで分解される。このマテリアルリサイクル法は、サステイナブルな循環型⾼分⼦材料としての可能性を秘めていることが⽰唆された。
	４．「宇宙空間での紫外線による⾼分⼦劣化」	宇宙航空研究開発機構	⾏松和輝氏
	宇宙環境での⾼分⼦材料の劣化や材料特性の変化について、地球環境との違いに基づいてご講演いただいた。宇宙環境では⾼分⼦材料の特性は、宇宙放射線や原⼦状酸素の影響を受け、さらに、地球上では⼤気の吸収によって存在しない 290nm 以下の波⻑領域の紫外線によって劣化が促進される。宇宙機の設計におけるポイントや地球上で⾏う宇宙環境曝露実験の紹介等を通して、宇宙環境下での⾼分⼦の劣化メカニズムについて知⾒を深めることができた。

第２４８回講演会
日　時	２０２２（令和４）年４月２１日（木）13：30～17：00
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『次世代リソグラフィ技術の展開』
	次世代リソグラフィ技術、半導体市場動向、半導体用レジストについての３件の講演を企画しました。量産が進む中でのEUVリソグラフィの現状と課題、半導体市場を取り巻く環境、そして、EUV用レジストを中心とした先端フォトレジスト技術について概説して頂いた。また、ご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
講演内容	1. 「ＥＵＶリソグラフィ技術の取り巻く環境および今後の微細加工技術について」	兵庫県立大学	渡邊健夫氏
	量産に用いられているEUVリソグラフィ技術の現状および今後の展開について、半導体産業にとりまく環境を含めて解説をして頂いた。また、今後の微細加工のpotential solutionについても紹介します。今後の日本の半導体技術の復興についても、ご講演を頂いた。
	２．「現在および今後の半導体市場動向について」	野村證券（株）	和田木哲哉氏
	ハイテク業界の見通しは明るい。日本の国際競争力が比較的高い半導体製造装置市場は、30年代に半導体市場が100兆円を超えるのに伴い、市場規模は20兆円を突破することが予想されている。半導体及び製造装置市場急拡大のドライバとして期待されるもののとして、カーボンニュートラル達成の機運やメタバースが挙げられる。この内容についてもご講演を頂いた。
	３．「先端レジスト技術の開発動向」	東京応化工業（株）	中村　剛氏
	半導体前工程の加工にEUVリソグラフィが適用され始め、微細化を担っている。EUV光はこれまでの光源に比べてフォトン数が少なく、微細化に伴い確率的な欠陥(Stochastics)の影響が大きくなってきている。フォトレジストの変遷も踏まえて、学会報告例等を取り上げて、今後の技術動向について優位性、懸念点などについてご講演を頂いた。
	４．「ブレイクアウトルーム」	全講演者
	聴講者と個々のご講演者が個別に質疑応答や意見交換をする場として「ブレイクアウトルーム」にて提供をさせて頂いた。多くの方々が講演内容についてさらに理解を深めることができた。

第２４９回講演会
日　時	２０２２年６月１０日（金）13：00～17：15
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『光制御重合反応の新展開』
	本講演会では、光による精密重合や特色ある重合方法の新しい展開について、新進気鋭の研究者4名を講師として招いてその可能性について解説をいただいた。ご講演の後、参加者とブレークアウトルームでの質疑応答も実施し、理解を深めることができた。
講演内容	1．「光ペルフルオロアルキル化反応を基にした重合反応への展開」	お茶の水女子大学	矢島知子氏
	光反応による有機化合物へのフルオロアルキル基の導入反応の開発とこの反応を用いた高分子化合物の合成につい講演された。光ペルフルオロアルキル化反応を基盤として、重付加によるフルオロアルキルーアルキル交互型フッ素ポリマーの合成、可逆配位媒介重合の開始剤としての活用、ヨウ化ペルフルオロアルキルからの光重合に展開した結果について詳細に解説があった。
	２．「相分離プロセスから見た精密UV硬化の新展開」	早稲田大学	須賀健雄氏
	光レドックス触媒やアミン、ホスフィンなどの有機触媒の存在下、重合鎖末端の共有結合(C-X結合、Xは臭素やヨウ素など)を「熱」ではなく「光」照射で可逆的に活性化することで、精密重合の進行／停止(On/Off)を繰り返し任意に制御できる技術背景から。本講演では、迅速なUV硬化反応に「光駆動型」の精密ラジカル重合機構を組み込み、重合過程の時間軸を制御することで、硬化膜内部のミクロ相分離構造、特に「共連続ナノ構造」を硬化と同時に形成する手法を紹介された。多官能アクリレートなどを母材としポリマーと光開始剤をそれぞれ加える汎用UV硬化と対比しながら、添加ポリマーと光開始剤を結合させた「光解離性高分子ドーマント」を用いる精密UV硬化について、成形・相分離形成プロセスを解説された。
	３．「安定ラジカルによる光制御リビングラジカル重合と高分子設計」	豊橋技術科学大学	吉田絵里氏
	安定ニトロキシルラジカルとして知られる 2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルを重合の制御剤とする光制御リビングラジカル重合と、この重合を用いる高分子設計について講演された。また、この重合に高分子の自己組織化を組み込むことによって得られる高分子ベシクル（ジャイアントベシクル）の分子生物学的な応用についても詳細にご講演された。
	４．「可視光を外部刺激とするポリマー合成と均一系光触媒デザイン」	東京都立大学	稲垣昭子氏
	可視光増感ユニットとして銅を導入したＣｕ－Ｐｄ二核錯体を設計し、パラジウム中心におけるスチレン類重合反応を検討したところ、銅周りを適切な立体環境に置くことによって初めて可視光増感ユニットとして機能することから、この錯体を触媒として用いると、可視光に鋭敏に応答し、光照射することにより進行する重合反応についてその詳細を解説された。

第２５０回講演会
日　時	２０２２年１０月２１日（金）13：00～16：50
場　所	大阪公立大学文化交流センター
テーマ	『光レジスト材料の基礎と応用』
	レジスト原料の合成、レジスト材料の合成・評価、最終的にはレジスト剥離まで、フォトポリマー材料に関する最新の研究開発について4件の講演をいただいた。参加者は少なかったものの、久しぶりの対面での開催となり、対面での熱いディスカッションがおこなわれた。講演会終了後も講師や参加者による交流が行われ、対面開催の良さを実感した。
講演内容	1．「原子状水素アニールによるポリマーの表面改質」	兵庫県立大学	部家　彰氏
	水素ガスを加熱触媒体（1700 ℃程度）で接触分解させることで高密度原子状水素を生成できる。この原子状水素の還元反応と再結合反応エネルギー（4.5 eV）を利用した表面改質法を原子状水素アニール（AHA）と命名し、各種材料への応用を検討している。本講演では、AHAによるポリマー材料の表面改質について紹介いただいた。
	２．「レーザー照射を用いたレジスト除去技術の開発」	大阪工業大学	神村共住氏
	水中環境下でSiウェハーに塗布されたレジストに可視レーザー光を照射すると、Siウェハーからレジストが剥離する。レジスト表面から除去する従来技術とは異なりレジストを剥離できる新しい技術です。本講演では、レーザー照射を用いたレジスト剥離とさらにオゾン水処理を組み合わせた除去技術について紹介いただいた。
	３．「ポリグリセリン系アクリレートの機能紹介」	阪本薬品工業（株）	宮路由紀子氏
	ポリグリセリン系アクリレートは、1分子内にポリグリセリン構造とアクリロイル基を有する多官能アクリレートです。我々が開発したポリグリセリン系アクリレートは、ネットワーク形成においてはソフトセグメントとして作用し、これまでの多官能アクリレートには見られない機能を備えています。本講演では、ポリグリセリン系アクリレートの塗膜物性を紹介いただいた。
	４．「i線用厚膜化学増幅型3成分レジストの開発」	大阪公立大学	堀邊英夫氏
	発表者自身の、大学に異動する前に勤務した電機メーカでは、16MDRAM用i線ノボラック系ポジ型レジスト、64MDRAM用KrF化学増幅型レジストの材料・プロセス開発に携った経験をもとにご講演いただいた。半導体、液晶デバイスの高密度化は著しい速度で進んでおり、より微細なパターンを短時間で加工するには、高解像度・高感度のフォトポリマー（レジスト）の開発が重要であり、i線用厚膜化学増幅型3成分レジスト（ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤）の開発について、溶解抑制剤の化学構造の観点から報告いただいた。

第３２回フォトポリマー講習会
日　時	２０２２年８月２５日－２６日
場　所	Zoomでのオンライン開催
	２日間にわたって基礎編、応用編の９件の講義が行われた。各日の最終プログラムとして講師ごとのブレイクアウトルームが設けられ，総括討議が実施された。構成はフォトポリマーを網羅し、ノウハウに関わる話題もあって、フォトポリマー技術の全貌が理解できる内容であった。
Ⅰ.基礎編	１．フォトポリマーの光化学	大阪公立大学	岡村　晴之氏
	フォトポリマーについて考えるために一般的な光化学以外にも有機化学や生化学の概念にも触れ、高分子の光物理化学を中心に光吸収や分子の励起状態と溶媒効果、エネルギーや電子の移動、増感反応、励起錯体形成などの基礎的な光化学と、関連して高分子中での挙動について低分子系と比較して解説された。さらに、カルボニル基含有ポリマーを例に挙げて温度依存性や光安定化，光フリース転移反応など高分子の光化学の特徴について詳しく説明された。
	２．フォトポリマーの材料設計	信州大学	上野　巧氏
	感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合の材料設計について解説された。塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点をフォトポリマーの疑問に答える形で平易に説明し、要求項目、露光装置・現像方法、感光性機能、要求性能への対応の点から感光材料の設計を考察された。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像についても解説された。
	３．光酸発生剤の基礎	サンアプロ（株）	柴垣　智幸氏
	光酸発生剤は、カチオン重合を用いた光硬化材料、および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤について解説された。実際に使われている光酸発生剤化合物群を例に挙げ、それらの反応、用途例、吸収波長や増感などについて実際の応用で要求される特性について詳しく説明された。それらの光酸発生剤の選択の考えかたについても紹介していただいた。カチオン重合反応を用いたコーティングや光造形、接着剤用途などの使われ方や，フォトレジスト用途でのg-線、i-線からEUVまでそれぞれの光源に対応する光酸発生剤の選択のポイント、高感度化の試みなどについて解説され、加えてサンアプロ社の光酸発生剤ラインナップについても紹介された。
	４．フォトポリマーの特性評価	リソテックジャパン（株）	関口　淳氏
	フォトポリマーを設計、開発、使用する、あるいはその材料を扱う上で必要なリソグラフィー材料・技術を概説していただき、特に、近年半導体微細加工に重要な化学増幅型レジストについて詳しく解説された。リソグラフィーの工程や化学増幅型レジストの課題と、脱保護反応の評価、現像中のレジストの膨潤の評価、光酸発生剤からの酸発生挙動および光酸発生剤からの酸の拡散挙動の評価方法に関して詳しく解説していただき、評価のために改良した分析装置、最新の評価手法などの研究結果もあわせて紹介された。
Ⅱ.応用編	５．微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	半導体とは何かにはじまり，動作原理やデバイス構造・性能を平易に解説し、微細加工技術の重要性について説明された。３０年にわたり開発が進められてきたEUVリソグラフィプロセスについて解説し、最先端半導体加工技術として量産化されたEUVリソグラフィーの技術的課題と今後の展望について各プロセス要因から解説された。さらにEUV用レジストについて現状と技術課題について説明された。技術的課題解決に向け、EUVリソグラフィー研究開発センター（CEL）研究施設や活動を紹介し、レジスト開発、新評価技術開発などの状況についても説明された。さらに将来のEUVの短波長化などの状況や日本の半導体復興に向けた取り組みについて課題と提案を述べられた。
	６．コーティング分野におけるモノマーとフオトポリマーの役割と設計思想	荒川化学工業（株）	冨樫　春久氏
	熱硬化と光硬化の比較から、光硬化システムの特徴や用途・材料構成について解説された。ラジカル重合性オリゴマーやモノマー、光開始剤と組み合わせと特性について紹介された。さらに、光や電子線照射装置の紹介や、光硬化を利用したディスプレイや光学フィルム製造などコーティング分野での応用例について、高硬化、低カール化、干渉縞低減、低耐電防止、塗料水系化などの課題解決と技術進展について解説された。
	７．感光性耐熱材料の最近の進歩	東レ(株）	富川真佐夫氏
	ポリイミドが優れた耐熱性、機械特性、電気絶縁性をもつことから、電子材料などに用いられるエンジニアリングプラスチックとして発展し、感光性ポリイミドが出現してきた技術的背景について詳しく解説された。ポリイミド(PI)およびポリベンゾオキサゾール(PBO)系の材料を中心に、ポリイミドの光化学と具体的な感光材料、次世代に向けた低温硬化材料などへの取り組みを紹介された。さらに、ポリイミド/銅界面での化学、先端パッケージ用材料、ディスプレイ用途への展開など最新の開発動向についても詳しく解説された。
	８．光硬化型接着剤および光アニオン硬化の接着剤への活用	（株）スリーボンド	大槻　直也氏
	「なぜ接着するのか？」についての解説から始まり、光硬化型接着剤についてラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理、および接着剤分野におけるそれぞれの硬化方法の長所と短所を比較され、光塩基発生剤などの光アニオン硬化の材料についても解説された。さらに、光スイッチ硬化型エポキシ樹脂接着剤、光硬化型黒色接着剤について概念やメカニズム・特性について詳しく紹介された。光硬化型接着剤の硬化収縮挙動の評価方法について接着剤組成との関連を考察された。
	９．トピックス　マテリアルズインフォマティクスの基礎	長瀬産業（株）	折井　靖光氏
	材料開発の効率化や革新的素材開発につなげていくために、企業等に長年蓄積されたビッグデータを価値に変える手段のひとつとして、マテリアルズインフォマティクス（MI）技術をわかりやすく解説された。長瀬産業が開発したMIプラットフォームのビジネスモデルとこれを用いて何ができるかについて紹介された。「AIは新材料をみつけることができるのか？」について現状と課題について実例をあげて詳しく解説された。喫緊の低消費電力化への半導体技術の展開と、AIを支えることにもなるこのための新材料開発の重要性について述べられた。

第２５１回講演会
日　時	２０２２年１２月８日（木）13：00～16：50
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『ライフサイエンスを支える機能材料』
	社会、市場のニーズに応えるフォトポリマー分野の新材料、新技術開発が進んでいる。今回、バイオマテリアルやヘルスケア材料などライフサイエンスに関連する機能材料について、企業の先生方4名にご講演頂いた。また、ご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、活発な議論を通して本分野の理解を深めることができた。
講演内容	1．「生物多様性の中で見いだされた、UV接着材料としてのドーパミンアクリルアミド」	大阪有機化学工業（株）	赤石　良一氏
	バイオミメッティクスモノマーであるドーパミンアクリルアミドは無機酸化物や金属への表面親和性が高く、UV硬化反応において表面密着性や異種材料間の粘・接着性の高い特性を有する研究内容に関して詳しくご講演頂いた。また、フェニルボロン酸との相乗効果や今後の展開に関しても紹介頂いた。
	２．「生体適合性ポリマーの新展開」	（株）日本触媒	中田　善知氏
	生体適合性発現のメカニズムとして「中間水コンセプト」が注目されている。中間水コンセプトの概略と、中間水コンセプトを用いた日本触媒における生体適合性ポリマーの開発についてご講演頂いた。また、多くの中間水を有し、優れた生体適合性が注目されているGLMA系ポリマーの特徴と、いくつかの応用例、さらに架橋技術と組み合わせた機能化などのトピックスについても紹介頂いた。
	３．「生体親和性を指向した機能性重合材料」	富士フイルム（株）	菅﨑敦司氏
	富士フイルムが開発した機能性重合材料の水溶性多官能アクリルアミドモノマーについて、硬化性、安全性、安定性などの基本特性を紹介頂いた。更に、本材料の生体親和性を指向した新たなバイオマテリアルへの応用例として、抗血栓性（抗血小板粘着性）やがん細胞接着選択性に展開した研究トピックスに関して詳細にご講演頂いた。
	４．「歯科治療と口腔ケアに光反応で貢献する歯科用高分子材料」	サンメディカル（株）	山本　隆司氏
	歯科治療としてメタクリレートモノマーを光重合で硬化させる手法は、ハンディタイプの可視光線照射器の開発、う蝕治療方法と接着材料の進歩により、現在では世界的スタンダードとなっている。光反応性高分子およびその技術が歯科治療と口腔ケアにどのように貢献してきたか、関連する製品の特性示しながら光反応技術の有用性をご講演頂いた。

第２５２回講演会
日　時	２０２３年１月１９日（木）13：00～17：00
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『SDGsなフォトポリマー』
	フォトポリマーは、光の刺激により特性が大きく変わることを機能として様々な用途に使用されている。フォトポリマーは、光を利用するため省エネルギー化には貢献しているが、脱炭素社会では材料を含め様々な新たな取り組みが必要となる。本講演では、持続可能な社会実現に向けた取り組みに関する最新の動向について紹介頂いた。
講演内容	1．「循環型熱硬化性樹脂によるサーキュラーエコノミー戦略」	物質・材料研究機構	内藤昌信氏
	サーキュラーエコノミーに関する全般的内容からリサイクルに関するアプローチ方法であるプロセスインフォマティックスによる手法や動的共有結合を導入したエポキシ樹脂の特異な力学物性などを含め硬化物の分解及び再生などの演者等の取り組みについて紹介頂いた。
	２．「酸と光を用いた協働的な材料分解・加工技術の開発」	東京大学大学院総合文化研究科	正井　宏氏
	光分解性材料や光加工性材料は産業的にも重要である一方で、材料が環境中の光でも容易に劣化し得るため、長期的な利用が困難とされてきた。本講演では新たに開発した酸と光を用いた協働的な分解・加工が可能な材料について紹介頂いた。酸と光による加工や分解が可能でありながらも、使用時には酸の除去によって高い光安定性を持つ材料を実現している。
	３．「光エネルギーと生体触媒によるCO2から有用物質生産～プラスチック原料生産への展開～」	大阪公立大学　人工光合成研究センター	天尾　豊氏
	太陽光エネルギーを利用し二酸化炭素をブドウ糖やデンプンに固定する天然光合成を手本にして、二酸化炭素を原料として有機化合物に固定し、生分解性プラスチック原料やプラスチックそのものを作り出すことができれば、天然光合成を手本とした究極の人工光合成が達成できる。本講演では、可視光増感分子とロジウム錯体からなる光酸化還元系にいくつかの生体触媒を組み込むことによって、光エネルギーを駆動力として二酸化炭素をアセトンなどの簡単な有機分子に固定し、有用なプラスチック原料が生産可能な技術について紹介頂いた。
	４．「ブレイクアウトルーム」	全講演者
	聴講者と個々のご講演者が個別に質疑応答や意見交換をする場を「ブレイクアウトルーム」にて提供をさせて頂いた。個別に意見交換することにより講演内容についてさらに理解を深めることができた。

2021年度総会・第２４３回講演会
日　時	２０２１年４月２２日（木） 13：00～13:20（総会）／13：30～17：00（第243回講演会）
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『次世代リソグラフィ技術の展開』
講演会講演内容	本講演会では、次世代リソグラフィ技術とそこに展開するフォトポリマーとの係わりについて3件の講演があり、現行リソグラフィの延長線上にあるＥＵＶリソグラフィ、先端フォトレジスト技術および3次元実装関連材料について詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
	1．「ＥＵＶリソグラフィの課題」	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	ハードウェア（露光機）、プロセスおよびマスク、レジスト材料などの技術開発が進みEUVリソグラフィの量産化が開始されている。EUVリソグラフィ技術の歴史や日本の産業上の立ち位置、今後の10年単位の展開について俯瞰され、レジスト技術についての改良が必要な低LWRやパタン倒れなどの課題や、技術開発の現状について詳細に解説された。さらにニュースバル放射光設備で開始している次世代BEUV研究、量子素子研究の成果についてもご講演頂いた。
	２．「先端フォトレジスト技術」	富士フイルム（株）	藤森　亨氏
	1986年の最初のEUVレジストに関する論文からひもとき、実用化の歴史から材料およびプロセスの開発についての最近の研究動向、将来展望について詳しく解説された。EUVレジストにおけるphoton stochasticとchemical stochasticについて解説し、どのようにこれらを軽減してレジスト材料を開発してきたか、ネガ型レジスト開発例などを踏まえてご講演頂いた。
	３．「3次元実装関連技術の現状と今後」	昭和電工マテリアルズ（株）	鳥羽　正也氏
	半導体の高集積化は限界になりつつあり、様々な環境下で使用される電子機器に搭載される半導体パッケージは、3次元実装も含めてこれまで以上に複雑で、かつ高い信頼性が要求されるようになってきている。半導体パッケージのトレンドから５G通信技術に向けた実装材料、プロセスなどについて、UV改質無電解めっき配線やトレンチ微細配線技術の例を交えて最近の研究動向、将来展望などを詳細にご講演頂いた。

第２４４回講演会
日　時	２０２１年６月１１日（金）13：00～16：50
場　所	Zoomでのオンライン開催
テーマ	『励起三重項状態を利用した機能材料』
	近年、励起三重項状態に関する新原理の発見に伴い、新材料、新技術の研究開発が進んでいる。今回は励起三重項状態を利用した新原理、機能性材料とその応用に関する報告４件についてご講演いただいた。ご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
講演内容	1．「非共役リンカーを基軸とした励起子変換材料の開発」	大阪府立大学	松井康哲氏
	近年、太陽光エネルギーの有効利用の手法として、長波長光を短波長光に変換するアップコンバージョン現象や、短波長光から複数の励起子を取り出す一重項分裂現象等の励起子変換が注目を集めている。本講演では、最近の励起子変換に関する研究の動向と、講演者らが行っている非共役リンカーを用いた励起子変換材料についてご講演を頂いた。
	２．「三重項直接励起による光化学反応」	千葉大学	中島　誠也氏
	直接的なS0→Tn遷移は古くからその現象は知られていたものの、S0→Sn遷移よりも圧倒的に起こりにくいことから、これまで光反応開発において重要視されてこなかった。本講演では、典型元素光化学反応における直接的なS0→Tn遷移の証明とそれを用いた光反応の開発に関してご講演を頂いた。
	３．「溶液塗布型OLEDの作製に資するりん光性有機金属錯体の機能化」	大阪府立大学	八木　繁幸氏
	Ir(III)やPt(II)を中心金属とする有機金属錯体は効率的な室温りん光を与えることで知られており、有機電界発光素子（organic light-emitting diode、OLED）の量子効率の向上に資する材料として注目されてきた。本講演では、溶液塗布型OLEDを指向した材料設計やエキシマー発光を利用した発光色の調節に関する話題を中心に、りん光性有機金属錯体の機能化についてご講演を頂いた。
	４．「高効率を目指した有機EL用りん光発光材料の開発」	コニカミノルタ（株）	北　弘志氏
	有機ELを照明に適用するには消費電力化、つまり高効率発光が最大の課題であり、そのためには開発難度の高い青色りん光材料の開発が不可欠であった。本講演では高効率かつ長寿命を達成した材料群の開発と、それらを用いた白色照明デバイスの商品化について詳しくご講演を頂いた。

第２４５回講演会
日　時	２０２１年１０月１９日（火）14：00～17：00
場　所	オンライン開催
テーマ	『ビッグデータと人工知能による材料開発』
	材料科学と人工知能（AI）を組み合わせたマテリアルズインフォマティクス(MI)が今後は重要になる。近年、ビックデータの出現、ネットワーク・アルゴリズムの進化、ハードウェアの独創的進歩により、第3次AIブームが到来しており、人間とAIとの共存が問題となっている。そのためには、エッジ側のインテリジェント化や、人間の脳を模倣したデバイスの開発、低電力のAIを開発することが重要となる。人間とAIとが共存する未来を創るためには、AIを発達させるためには、今我々は何をすべきかについて、MIを中心に各分野の著名な方3名にご講演頂いた。
講演内容	1．「マテリアルズ・インフォマティクスプラットフォームの開発」〜AIは新材料を見つけることができるのか？〜	長瀬産業	折井　靖光氏
	MI技術により材料開発期間やコストの削減、革新的な素材の発見が実現する。AIをベースとして膨大な文献情報を読みデータを知識化する「コグニティブアプローチ」、構造や物性値の予測モデルから理論的に化合物の構造を推定する「アナリディティクスアプローチ」の手法を紹介された。長瀬産業はIBMとこれら2つのエンジンを搭載したMIプラットフォームを開発している。AI時代における半導体技術の在り方から、材料技術の重要性、新規材料発掘に手助けとなるMIの話を2020年11月にサービスを開始したMI SaaSサービスを中心にご説明された。
	２．「線型独立記述子生成法による解釈可能モデリング」	兵庫県立大学　高度産業科学技術研究所	藤井　将氏
	計算・実験により得られた様々なデータから物性や機構を理解するためには、予測精度だけでなく解釈性も高いモデルを構築する必要がある。そのための方法として線型独立記述子生成（LIDG）法を紹介する。LIDG法では、記述子（説明変数）の数が少ない（スパースな）モデルが得られるだけでなく、モデルの構築段階において記述子の形の単純さ・整合性を十分配慮しながらのモデリングが可能であるとのお話であった。
	３．「架橋型ポリシルセスキオキサン合成における分子量予測」	千葉大学大学院工学研究院物質科学コース	塚田　学氏
	ポリシルセスキオキサン(RSiO3/2)nは、三官能性有機アルコキシシランの加水分解重縮合反応で合成されることが多い。しかし、反応制御が難しいため、得られるポリシルセスキオキサンの分子量を予測することは、一般的には困難である。本講演では、架橋型ポリシルセスキオキサンの合成やその物性について、また加水分解重縮合反応におけるポリシルセスキオキサンの分子量予測についてご紹介された。

第２４７回講演会
日　時	２０２２年１月２６日（水）13：00～16：40
場　所	オンライン開催（ZOOM）
テーマ	『アニオン重合性フォトポリマーの最新動向』
テーマ	フォトポリマーは、塗料・コーティングからフォトリソグラフィーといった様々な用途で重要な役割をはたしている。光硬化型フォトポリマーの硬化方式はラジカル系やカチオン系が良く知られている。アニオン硬化系はラジカル系やカチオン系と異なり、欠点の少ない硬化系として期待されている。今回、新たにアニオン系に注目し、アニオン重合系フォトポリマー分野で起こっている最新の技術革新についてオンラインでご講演頂いた。
講演内容	1．『三官能オキシムエステル型光塩基発生剤を用いたエピスルフィド基を有する高屈折率ジフェニルフルオレン光架橋膜の作製』	大阪府立大学	岡村　晴之氏
	光塩基発生剤によるリワーク型の光架橋系の紹介から最新のエピスルフィド部位を有するジナフチルフルオレンと三官能オキシムエステル型光塩基発生剤をブレンドした高屈折・高い熱安定性を有する光架橋系まで基礎的なところから最先端の研究例まで詳しく解説頂いた。
	２．『光塩基発生剤を用いたUVアニオン硬化』	富士フイルム和光純薬（株）	酒井信彦氏
	光塩基発生剤は、ラジカルや酸を用いた従来のUV硬化とは異なる多彩な反応に応用できる。本講演では、光塩基発生剤（PBG）の種類や利用できる硬化系の種類・その応用事例などの紹介から、非常にユニークなビニルスルホン誘導体や今後期待されるアプリケーションまで幅広くご講演頂いた。
	３．『オキシムエーテルユニットを末端に導入したポリフタルアルデヒドの光解重合』	大阪府立大学	陶山　寛志氏
	ポリフタルアルデヒド（PPA）は代表的な解重合性ポリマーである。本講演では、アニオン重合で末端にオキシムエーテルユニットを組み込んだPPAの合成及びその光解重合挙動やマクロモノマー化してアクリル酸ブチルと共重合化したポリマーの光による特性変化などの紹介頂いた。また、本技術の今後の展開についても併せてご報告頂いた。

第３１回フォトポリマー講習会
日　時	２０２１年８月２６日－２７日
場　所	Zoomでのオンライン開催
	基礎編、応用編に分けて２日間９件の講演が行われた。各日の最終プログラムとして総括討議が実施された。構成はフォトポリマーを網羅し、かつ、応用編ではノウハウに関わる話題まであり、本講習会に出席すればフォトポリマーの全貌が理解できる内容であった。
Ⅰ.基礎編	１．フォトポリマーの光化学	大阪府立大学	岡村　晴之氏
	フォトポリマーについて考えるためには、一般的な光化学の概念を基礎とするも、その他に有機化学や生化学の概念も必要となってくる。本講演では、光吸収や分子の励起、エネルギーや電子の移動、増感反応等基礎的な光化学と、それらを実際にフォトポリマーに活用した幾つかの具体例を解説していただいた。
	２．フォトポリマーの材料設計	信州大学	上野　巧氏
	感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合ではその材料設計が異なる。塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点を解説し、感光材料の設計を考察していただいた。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像についても解説していただいた。また、フォトポリマーの疑問という形式で、フォトポリマーの材料設計にかかわる基本的な考え方を解説していただいた。
	３．光酸発生剤の基礎	サンアプロ（株）	柴垣　智幸氏
	光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介していただいた。g-線、i-線からEUVまでそれぞれの光源に対応する光酸発生剤の選択のポイントを解説していただいた。
	４．フォトポリマーの特性評価	リソテックジャパン（株）	関口　淳氏
	フォトポリマーを設計、開発、使用するうえで、あるいはその材料を扱ううえで必要なリソグラフィ材料・技術を概説していただき、特に、近年半導体微細加工に重要な化学増幅型レジストについて詳しく解説していただいた。脱保護反応、現像中のレジストの膨潤、光酸発生剤のからの酸発生挙動および光酸発生剤からの酸の拡散挙動に関して詳しく解説していただき、評価のために改良した分析装置、最新の評価手法など最近の研究結果もあわせてご紹介いただいた。
Ⅱ.応用編	５．微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	ＬＳＩの微細加工は、レジスト材料の発展によって支えられてきた。本講演では、レジスト材料開発の歴史と、波長別レジスト材料について紹介し、最先端半導体加工技術としてEUVLでの量産が開始されたこと、今後の展望もEUVL技術を中心に解説していただいた。あわせて、兵庫県立大学のEUVレジスト研究施設を紹介し、さらに、レジスト開発、新評価技術開発などの状況についても説明していただいた。
	６．コーティング分野におけるモノマーとフオトポリマーの役割と設計思想	荒川化学工業（株）	冨樫　春久氏
	光硬化を利用したコーティングはディスプレイや光学フィルムを製造する際に欠かせない技術である。重合活性基を有する様々なモノマーと、それらを変性したオリゴマー、光開始剤の特性と基本的な組み合わせ例を紹介していただいた。さらに応用技術として、高硬化、低カール化、干渉縞低減、低耐電防止、塗料水系化などの技術を紹介いただいた。
	７．感光性耐熱材料の最近の進歩	東レ(株）	富川真佐夫氏
	半導体の保護膜などに用いられている感光性耐熱材料について、ポリイミド(PI)およびポリベンゾオキサゾール(PBO)系の材料を中心に、ポリイミドの光化学、具体的な感光材料、次世代に向けた、低温硬化材料などへの取り組みを紹介していただいた。さらに、ポリイミド/銅界面での化学、先端パッケージ用材料の最新の開発動向などについても詳しく解説していただいた。
	８．光硬化型接着剤および光アニオン硬化の接着剤への活用	（株）スリーボンド	大槻　直也氏
	アニオンUV硬化を中心に、ラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理および接着剤分野におけるそれぞれの硬化方法の長所と短所を解説していただいた。また、（株）スリーボンド社の製品を中心に、各硬化方法を利用した種々の接着剤製品を紹介していただいた。また、トピックスとして光硬化型黒色接着剤について解説していただいた。さらに、光硬化型接着剤の硬化収縮の最近の研究についてご紹介いただいた。
	９．トピックス　フォトレジストの分析技術～薄膜の化学構造解析を中心に～	（株）東レリサーチセンター	萬　尚樹氏
	フォトレジストの露光・現像プロセスにおける化学構造変化を把握するための分析法は限られているが、近年の分析技術の進歩により、得られる情報量が多くなってきた。GCIB-TOF-SIMSによる化学増幅型レジストの深さ方向分析では、PAGの分布や酸の拡散挙動、脱保護反応を明確にとらえることができる。本講演では、フォトレジストの薄膜での分析事例を中心に、最近の分析技術について解説していただいた。さらに、最新分析技術としてLESA機能を搭載したNanoESI-MSについてもご紹介いただいた。

第２３８回講演会
日　時	２０２０（令和２）年６月２５日（木）13：00～16：30
場　所	オンライン開催（Teams）
テーマ	『フォトポリマーの新材料、新技術』
	フォトポリマー材料の分野においても社会、市場のニーズに応える新材料、新技術の研究開発が進んでいる。今回の講演会では、環境保護の観点から注目されている解体性材料、および、従来にはない特徴を有する新規な機能性モノマーとその応用について、オンラインでご講演頂いた。
講演内容	1. 「様々な外部刺激に応答する解体性材料の開発」	大阪産業技術研究所	舘秀樹氏
	リサイクル・環境保護の観点から、使用後に解体可能な機能性材料が注目されている。酸分解性ポリウレタン粘着剤とマイクロカプセル化した熱酸発生剤からなる超音波剥離可能な易剥離粘着剤、光分解性ユニットとしてアシルオキシム構造を導入した光分解性の架橋剤やポリウレタン樹脂について、合成法から外部刺激に対する応答性まで動画を交えて詳しく解説頂いた。
	２．「メチレンマロネート（開発品）の特徴」	（株）日本触媒	西孝治氏
	メチレンマロネートは、アニオン重合性とラジカル重合性を併せ持つモノマーで、常温アニオン硬化は水分の影響を受けづらく、ラジカル重合では（メタ）アクリレートとの共重合が可能という特徴を有する。ＵＶ硬化材料への応用として、光ラジカル発生剤や光塩基発生剤と組み合わせた時の特性（光硬化速度、硬化物の機械的特性）について講演頂いた。
	３．「脂環式エポキシモノマー『ＥＰＯＣＨＡＬＩＣ（エポカリック）』について」	ENEOS（株）	米田弘義氏
	一般に脂環式エポキシはグリシジルエーテルタイプのエポキシと比較して耐熱・耐光性に優れるが、ENEOS社開発の新規脂環式エポキシ「EPOCHALIC（エポカリック）」は脂環式骨格のみで構成されているため、より高い耐熱性、低粘度という特徴を有するモノマーである。光酸発生剤と組み合わせた時の特徴（低露光量での硬化、光酸発生剤低添加量での硬化が可能）について講演頂いた。

第３０回フォトポリマー講習会
日　時	２０２０年８月２７日－２８日
場　所	MS Teamsでのオンライン開催
	基礎編、応用編に分けて２日間９件の講演が行われた。各日の最終プログラムとして総括討議が実施された。構成はフォトポリマーを網羅し、かつ、応用編ではノウハウに関わる話題まであり本講習会に出席すればフォトポリマーの全貌が理解できる内容であった。
Ⅰ.基礎編	１．フォトポリマーの光化学	大阪府立大学	岡村　晴之氏
	フォトポリマーについて考えるためには、一般的な光化学の概念を基礎とするも、その他に有機化学や生化学の概念も必要となってくる。本講演では、光吸収や分子の励起、エネルギーや電子の移動、増感反応等基礎的な光化学と、それらを実際にフォトポリマーに活用した幾つかの具体例を解説していただいた。
	２．フォトポリマーの材料設計	信州大学	上野　巧氏
	感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合ではその材料設計が異なる。塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点を解説し、感光材料の設計を考察していただいた。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像についても解説していただいた。
	３．光酸発生剤の基礎	サンアプロ（株）	柴垣　智幸氏
	光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介していただいた。
	４．フォトポリマーの特性評価	リソテックジャパン（株）	関口　淳氏
	フォトポリマーを設計、開発、使用するうえで、あるいはその材料を扱ううえで必要な特性評価を概説していただいた。膜厚、光量の測定、フォトレジストのリソグラフィ特性、過渡吸収と活性種同定、膜の諸物性、化学反応速度論と量子収率まで広い範囲の項目をほぼ網羅していただいた。また、代表的なフォトレジストで、長い間使用され続けているノボラック系のポジ型レジストについて、プロファイルシミュレーション、マトリックス樹脂の分子量、分子量分布とレジスト性能に関する研究結果も紹介いただいた。
Ⅱ.応用編	５．微細加工用レジスト	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	ＬＳＩの微細加工は、レジスト材料の発展によって支えられてきた。本講演では、レジスト材料開発の歴史と、波長別レジスト材料について紹介し、最先端半導体加工技術としてEUVLでの量産が開始されたこと、今後の展望も解説していただいた。あわせて、兵庫県立大学のEUVレジスト研究施設を紹介し、さらに、レジスト開発状況についても説明していただいた。
	６．コーティング分野におけるモノマーとフオトポリマーの役割と設計思想	荒川化学工業（株）	冨樫　晴久氏
	光硬化を利用したコーティングはディスプレイや光学フィルムを製造する際に欠かせない技術である。重合活性基を有する様々なモノマーと、それらを変性したオリゴマー、光開始剤の特性と基本的な組み合わせ例を紹介していただいた。
	７．感光性耐熱材料の最近の進歩	東レ（株）	富川真佐夫氏
	半導体の保護膜などに用いられている感光性耐熱材料について、ポリイミド(PI)およびポリベンゾオキサゾール(PBO)系の材料を中心に、ポリイミドの光化学、具体的な感光材料、次世代に向けた、低温硬化材料などへの取り組みを紹介していただいた。
	８．光硬化型接着剤の概要と光アニオン硬化、光硬化型黒色接着剤	（株）スリーボンド	大槻　直也氏
	アニオンUV硬化を中心に、ラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理および接着剤分野におけるそれぞれの硬化方法の長所と短所を解説していただいた。また、（株）スリーボンド社の製品を中心に、各硬化方法を利用した種々の接着剤製品を紹介していただいた。また、トピックスとして光硬化型黒色接着剤について紹介していただいた。
	９．トピックス　フォトレジストの分析技術～薄膜の化学構造解析を中心に～	（株）東レリサーチセンター	萬　尚樹氏
	フォトレジストの露光・現像プロセスにおける化学構造変化を把握するための分析法は限られているが、近年の分析技術の進歩により、得られる情報量が多くなってきた。GCIB-TOF-SIMSによる化学増幅型レジストの深さ方向分析では、PAGの分布や酸の拡散挙動、脱保護反応を明確にとらえることができる。本講演では、フォトレジストの薄膜での分析事例を中心に、最近の分析技術について解説していただいた。

第２４０回講演会
日　時	２０２０（令和２）年１０月１６日（木）
場　所	オンライン開催（Teams）
テーマ	『ファインバブルの医療、農業・林業、工学分野への実用の可能性』
	現在注目されているファインバブルに関して、バイオ医薬、農業・林業分野への応用、滅菌技術や有機物分解に対する最新の成果について、当分野で著名な研究者による講演をオンラインで行った。
講演内容	1. 「バイオ医薬分野におけるウルトファインバブルの応用」	福岡大学	立花克郎氏
	現在、マイクロバブルは医療分野で診断および治療を目的に臨床応用されている。超音波エネルギーでマイクロバブルを共振・崩壊することで、様々な化合物を物理化学的に励起でき、血栓の溶解、癌治療、遺伝子治療など大きなポテンシャルを有する。本講演では、さらに微細なウルトラファインバブルを用いた最新の研究成果について解説頂いた。
	２．「農業・林業分野を中心としたファインバブル技術の実用化研究」	岩谷産業	小池国彦氏
	ファインバブルは、洗浄や排水処理分野を中心に実用化が進んでいるが、植物の発芽率や生育速度の向上にも効果が認められている。この効果に着目し、ファインバブルの基本特性評価と合わせて、農業・林業分野への実用化開発に注力している具体的事例を解説頂いた。
	３．「オゾンファインバブルによる滅菌技術」	ヤマト科学	筧　伸雄氏
	感染症対策の中で最重要プロセスの一つである滅菌工程におけるオゾンファインバブルを用いた新滅菌装置開発とその基盤技術であるファインバブルの、発生方法、測定技術、およびアプリケーションについて詳細に解説頂いた。
	４．「オゾンマイクロバブルによる有機物分解」	大阪市立大学	堀邊英夫氏
	マイクロバブルの有効性について、工学的観点から紹介頂いた。オゾンマイクロバブルを用いたレジスト薄膜の分解をレジストの化学構造、pH依存性、温度依存性について、また、水溶液中での高分子化合物（ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸等）の分解促進酸化も含めTOC、NMR、分子量の観点から解説頂いた。

第２４１回講演会
日　時	２０２０（令和２）年１２月３日（木）１３：００～１７：００
場　所	Teamsでのオンライン開催
テーマ	『グリーンポリマーと環境調和型フォトポリマーの新展開』（有機エレクトロニクス材料研究会共催）
	本講演会では人類的課題となっている海洋漂流マイクロプラスチックの現象や状況について詳しい説明があり、これを踏まえたプラスチックの環境負荷低減、循環型社会への取り組みへの課題やさまざまな試み、さらには光反応が関与する環境調和型フォトポリマーに関する成果について詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
講演内容	1. 「海洋プラスチックデブリ問題と海洋生分解性プラスチック」	群馬大学	粕谷健一氏
	海洋プラスチックごみが引き起こす地球的な現象やさまざまな課題と、生分解性プラスチックを取り巻く情勢について解説され、生分解性プラスチックとその環境分解機構における分解微生物、分解酵素による分解について詳しく説明された。現在取り組んでいる光反応も含む海洋時限分解性プラスチックの創出に関する研究成果についてご講演を頂いた。
	２．「感光性分解コントロール型バイオポリマー」	北陸先端科学技術大学院大学	金子達雄氏
	多官能性バイオ分子を構造制御することで環境適応型材料を開発しており、光刺激応答型分解性の背景から解説し、生物由来の桂皮酸ポリマーである光応答分解性ポリエステル、生体分子の一つであるイタコン酸を用いた高性能な光応答水溶化バイオナイロンについて詳しくご講演頂いた。これらは光と水による刺激応答により水溶化し、分解、崩壊するものであり、いったん海洋に出ると光と水の二重刺激により分解性へと変化する海洋分解性プラスチックとなることについて詳しく解説された。
	３．「パッケージにおける循環型社会に向けた取り組み」	東洋インキ株式会社	丹羽紀人氏
	インド駐在のご経験に基づくプラスチックごみ問題と世界的な環境対応の取り組みとについて解説された。これに関する東洋インキグループの環境対応型パッケージ材料でのバイオマスインキ、水性インキなどの開発や課題、またリサイクル実現に貢献するインキ・接着剤脱離システムなどの技術等に関する具体的事例を紹介し、循環型社会をつくるためのプラスチック容器・パッケージの提案について講演された。
	４．「リワーク型樹脂とその応用：環境負荷低減を目指して」	大阪府立大学	岡村晴之氏
	光硬化性樹脂と環境問題について解説された。リワーク型樹脂の概念に基づき、光照射で架橋・硬化し、次に異なる波長の光照射とそれに続く加熱を行うと架橋構造が解裂し硬化物を溶解除去する事ができる解架橋性光硬化樹脂の設計と合成について説明された。また、光パターニング材料への応用や生物由来のモノマー材料などユニークな特長についてもご講演頂いた。

第２４２回講演会
日　時	２０２１（令和３）年１月２７日（水）１３：００～１７：００
場　所	オンライン開催（Teams）
テーマ	『フォトリソグラフィと材料技術開発』
	半導体産業を支えるフォトリソグラフィ技術の進歩の背景に様々な技術分野での開発・改良の歴史がありました。それらの中の1つの技術でも欠けていたならば、この技術は現在のレベルには至らなかったものと考えられます。これらの技術分野の中から「フォトリソグラフィと材料技術開発」と題してレジスト材料技術及び分析・シミュレーションの技術分野での進展と将来像を考えてみたいと思います。
講演内容	1. 「Lithography’s Endgame」	EMDパフォーマンスマテリアルズ	Ralph Dammel 氏
	フォトリソグラフィの歴史を解説頂き、その技術はチップ設計が3次元に移行するにつれて、ノードを進歩させるためのゲーティング技術としての歴史的な役割を失いつつあります。 EUVの登場により現実的に最終波長に到達したと言っても過言ではない。このプレゼンテーションでは、デバイスの高密度化がリソグラフィ技術と共にチップ製造技術及び材料設計がそれぞれの極限技術を目指している状況を解説して頂いた。
	２．「EUVレジストの軌跡と今後への期待」	JSR（株）	丸山　研氏
	EUVリソグラフィの実デバイスへの適用が本格化している。EUV用フォトレジストの開発を振り返ると共に、レジスト開発の一端としてstochastic errorを低減するための技術を報告頂き、更なる微細化技術としての今後の展望について解説して頂いた。
	３．「レジスト材料の分析技術」	（株）東レリサーチセンター	萬　尚樹氏
	レジストの露光・現像プロセスにおける化学構造変化を把握するために有効な最新分析技術について解説頂いた。主な分析技術としてGCIB-TOF-SIMSによるレジスト膜の深さ方向解析法、マイクロGPC ＆熱分解GC/MSによる現像境界領域の解析法及びレジスト表面分析としての最新技術としてLESA-NanoESI-MSによる分析法を紹介頂いた。
	４．「分子シミュレーションとその応用」	境界科技研、東京理科大学	鳥海　実氏
	最先端の半導体デバイスの量産現場では光源波長が13.5nm のEUVリソグラフィが使われるようになり、5nmノードプロセスが行われている。このプロセスにおいても化学増幅レジストが使われているが、その解像度、感度、パターン側壁の荒れなどのレジスト特性を向上させるための手法として分子シミュレーションを援用した取り組みについて紹介頂いた。

総会・第２３１回講演会
日　時	２０１９年４月２５日（木）13：00～17:00
場　所	東京理科大学　森戸記念館
総　会	平成３０年度事業報告および決算収支報告の承認。２０１９年度事業計画および予算の決議。
第231回講演会	『次世代リソグラフィ技術の展開』のテーマの下に次の3件の講演があり、詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
	◆ 13：30～14：30 「ＥＵＶリソグラフィの課題と今後の展開」	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	ＥＵＶリソグラフィについて、ハードウェア（露光機）、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、レジスト材料、光源などのさらに改良が必要な課題も残されている。本講演では、このような状況の中で、技術開発の現状および今後の展望について概説していただいた。
	◆ 14：40～15：40 「EUV露光装置の現状と今後」	ASMLジャパン	宮崎　順二氏
	ASMLは次世代露光技術であるEUVリソグラフィ装置の世界唯一のメーカーで、EUVは1台1億ドル以上かかるような世界で最も高価な精密機械ともいわれる。該社が開発を進めているEUV露光装置の現状と将来展望などを概説していただいた。
	◆ 15：50～16：50 「先端フォトレジスト技術」	ＪＳＲ	丸山　研氏
	EUVレジストを中心に、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。歴史的なレジスト材料を俯瞰し、金属レジストなどの最近の研究動向、将来展望を概説していただいた。

第２３２回講演会
日　時	２０１９年６月６日（木）13：00～16：55
場　所	東京理科大学　森戸記念館
テーマ	『フォトポリマーによる微小構造形成技術の新展開』
	本講演会では生物の表面構造により発現する機能とこれを模倣した表面やデバイスが紹介され、詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
第232回講演会講演内容	1. 「フォトポリマーを利用した機能表面の創成と応用」	工学院大学	鈴木健司氏
	生物の表面構造により発現する機能とこれを模倣した興味深い表面やデバイスが紹介され、さらに昆虫の表面機能を模倣したマイクロロボットについての最近の研究成果についてご講演を頂いた。
	２．「MEMS用レジストの新展開」	日本化薬（株）	小野禎之氏
	MEMSは半導体微細加工技術を基礎に発展した小型システムである。エポキシ硬化反応を利用した代表的MEMSレジストであるSU-8とその材料的展開と、接合や埋め込みなどの各プロセスと対応するMEMSレジストと将来について詳しくご講演頂いた。
	３．「高規則性ポーラスアルミナを用いた光インプリントによるナノ規則表面形成と機能化」	首都大学東京	柳下崇氏
	陽極酸化によって作製される高規則性ポーラスアルミナをモールドにした光インプリントによる規則パターンの形成と撥水表面や反射防止表面などの機能性表面への展開について詳しくご講演頂いた。
	４．「微細構造作製技術を利用した生体模倣材料」	名古屋工業大学	石井大佑氏
	フナムシの後ろ脚にある微小構造で形成されたオープン流路を模倣したフナムシ流路について、その化学的組成を系統的に変化させて、液体輸送や水―オイル分離システムとなり得るマイクロ流体デバイスへの展開について詳しくご講演頂いた。

第２９回フォトポリマー講習会
日　時	２０１９年８月２９日－３０日
場　所	東京理科大学　神楽坂キャンパス2号館222教室
	基礎編、応用編に分けて２日間９件の講演が行われた。第１日目の最終プログラムとして統括討議と懇親会が実施された。懇親会では参加者と講師の先生方ほぼ全員が出席し、ビールを飲みながら和気藹々とディスカッションや名刺交換を行い、よい雰囲気であった。構成はフォトポリマーを網羅し、かつ、応用編ではノウハウに関わる話題まであり本講習会に出席すればフォトポリマーの全貌が理解できる内容であった。
Ⅰ.基礎編	１．フォトポリマーの光化学	大阪府立大学	岡村　晴之氏
	フォトポリマーについて考えるためには、一般的な光化学の概念を基礎とするも、その他に有機化学や生化学の概念も必要となってくる。本講演では、光吸収や分子の励起、エネルギーや電子の移動、増感反応等基礎的な光化学と、それらを実際にフォトポリマーに活用した幾つかの具体例を解説していただいた。
	２．フォトポリマーの材料設計	信州大学	上野　巧氏
	感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合ではその材料設計が異なる。塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点を解説し、感光材料の設計を考察していただいた。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像についても解説していただいた。
	３．光酸発生剤の基礎	サンアプロ（株）	白石　篤志氏
	光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介していただいた。
	４．フォトポリマーの特性評価	リソテックジャパン（株）	関口　淳氏
	フォトポリマーを設計、開発、使用する上で必要な特性評価について概説していただいた。特に近年リソグラフィにとって重要な化学増幅型レジストについて、①脱保護反応の評価、②現像中のレジスト膨潤の評価、③PAGからの酸発生挙動の評価、④PAGからの酸の拡散挙動の評価を中心に詳しく解説していただいた。また、演者が考案した脱保護過程を分析すためのぺーく付きFT-IR分光装置についてもご紹介いただいた。
Ⅱ.応用編	５．微細加工用レジスト	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	ＬＳＩの微細加工は、レジスト材料の発展によって支えられてきた。本講演では、レジスト材料開発の歴史と、波長別レジスト材料について紹介し、最先端半導体加工技術としてEUVLでの量産が開始されたこと、今後の展望も解説していただいた。あわせて、兵庫県立大学のEUVレジスト研究施設を紹介し、さらに、レジスト開発状況についても説明していただいた。
	６．コーティング分野におけるモノマーとフオトポリマーの役割と設計思想	荒川化学工業（株）	冨樫　晴久氏
	光硬化を利用したコーティングはディスプレイや光学フィルムを製造する際に欠かせない技術である。重合活性基を有する様々なモノマーと、それらを変性したオリゴマー、光開始剤の特性と基本的な組み合わせ例を紹介していただいた。
	７．ウエハーコート用感光性耐熱材料	日立化成デュポンマイクロシステムズ（株）	大江　匡之氏
	半導体の保護膜などに用いられている感光性耐熱材料について、ポリイミド(PI)およびポリベンゾオキサゾール(PBO)系の材料を中心に概説した。ポリイミドの光化学、具体的な感光材料、次世代に向けた、低温硬化材料などへの取り組みを紹介していただいた。
	８.光硬化型接着剤の概要と光アニオン硬化、光硬化型黒色接着剤	（株）スリーボンド	大槻　直也氏
	アニオンUV硬化を中心に、ラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理および接着剤分野におけるそれぞれの効果方法の長所と短所を解説していただいた。また、（株）スリーボンド社の製品を中心に、各硬化方法を利用した種々の接着剤製品を紹介していただいた。また、トピックスとして光硬化型黒色接着剤について紹介していただいた。
	９．トピックス　黎明期からのリソグラフィの進化：悠久のレジスト材料開発	フォトポリマー懇話会／神奈川大学	鴨志田洋一氏
	現在の情報化社会はマイクロエレクトロニクス(ME)の進化に支えられている。MEはリソグラフィ技術の結晶であり、リソグラフィの進歩は露光装置をはじめとするハードウェア、レジスト材料、プロセス技術開発など日本が発展期を牽引してきた。特にレジスト材料開発に関しては、発展期から現在に至るまで日本の材料メーカーが中心となって推進してきている。ゴム系ネガ型フォトレジストからg線/i線ノボラック系レジスト、エキシマレーザ化学増幅型レジストまで材料開発の歴史の光と陰を振り返り、さらに今後の材料開発を展望した。

２０１９年（令和元年）度見学会・第２３３回講演会
日　時	２０１９年９月１１日（水）13：30～16：15
場　所	日立化成株式会社　パッケージングソリューションセンタ
見学会	次世代パッケージの研究開発を加速するための最先端の実装装置を設置したクリーンルーム、実験スペース、装置メーカー、材料メーカーとともに、次々世代パッケージを評価するためのコンソーシアム専用スペース等を案内していただき、直径300mmウエハーサイズから600mm角パネルサイズまで対応する最先端の半導体実装装置最先端のウエハーの加工方法であるレーザーダイシングやパネルレベルのステッパーによる微細配線形成、さらに2.5D実装、3D実装、FOWLP、FOPLPの試作、評価用の設備を見学させていただいた。
第233回講演会	「パッケージングソリューションセンタを利用したオープンイノベーション戦略と成果」	パッケージングソリューションセンタ	宮崎　忠一氏峯岸　知典氏
第233回講演会	半導体実装材料・プロセスのオープンイノベーションを促進するオープン・ラボ（茨城県つくば市）の機能を強化すべく、神奈川県川崎市（新川崎）に移転し、パッケージングソリューションセンタを開設した。実装材料クラスターの戦略的拠点とし、材料の提供にとどまらず、プロセスを含めた総合的なソリューション・プロバイダーとして、お客さま、装置メーカー、材料メーカー各社とともにオープンイノベーションに取り組み、新規最先端パッケージの実現に貢献してゆくとのこと。研究事例を交えて説明していただいた。

フォトポリマー懇話会は、感光性樹脂（フォトポリマー）に関する情報を発信する学術団体です。

第２３４回講演会
日　時	２０１９（令和元）年１０月１１日（金）13：00～17：00
場　所	大阪市大文化交流センター
テーマ	『フォトポリマーによる微小構造形成技術の新展開』
講演内容	1．「柔軟性に優れる多官能アクリレートの特性と応用例」	阪本薬品工業（株）	栗山重平氏
	光硬化性樹脂の1つであるアクリレートは、硬化に熱を必要とせず、短時間で硬化できることに加え、無溶剤化が可能であることから、省エネルギーで環境負荷が少ない材料である。グリセリンの重縮合物であるポリグリセリンを主骨格に用いた多官能アクリレートについては、柔軟なポリグリセリン骨格により、硬化物は硬化速度が早い、柔軟性が高い、硬化収縮が低いなど多くの特徴を有する。本講演では、ポリグリセリンアクリレートモノマーについて、その基礎物性と応用例を紹介頂いた。
	２．「エステル交換法による多官能アクリレートの開発」	東亞合成（株）	大房一樹氏
	従来、多官能アクリレートは脱水エステル法が主な製造法であったが、マイケル付加反応による高分子量化や、強酸触媒の残存による経時変化などの問題があった。本講演では、エステル交換法による新しい多官能アクリレートの製造法を確立し、従来よりも低粘度、高純度な多官能アクリレートについて紹介された。さらに、植物由来原料の活用や高親水性など、これまでは実現困難だった多官能アクリレート化合物についても説明された。
	３．「フォトレジストの分析技術～薄膜の化学構造解析を中心に～」	（株）東レリサーチセンター	萬　尚樹氏
	フォトレジストの露光・現像プロセスにおける化学構造変化を把握するための分析法は限られているが、近年の分析技術の進歩により、得られる情報量が増加してきた。特にGCIB-TOF-SIMSによる化学増幅型レジストの深さ方向分析では、PAGの分布や酸の拡散挙動、脱保護反応を明確に捉えることができる。本講演では、フォトレジストの薄膜での分析事例を中心に、最新の分析技術について解説頂いた。
	４．「感光性耐熱材料の最近の進歩」	東レ（株）	富川真佐夫氏
	感光性ポリイミド、感光性PBOはファンアウト型パッケージの再配線材料への展開が進められている。銅配線との接着、マイグレーション耐性、高温放置耐性などについて触れるとともに、低温硬化に向けた取り組みなどについて紹介頂いた。さらに、低誘電率化・低誘電損失化などの今後の開発のトレンドについて述べられた。

第２３６回講演会
日　時	２０２０（令和２）年１月２８日（火）13：00～17：00
場　所	東京理科大学　森戸記念館
テーマ	『短波長光源と波長の科学～マッチングと新しい選択～』
	各種光源から発生する様々な波長を利用した新しい技術が開発され、多くの分野で実用に向けた研究開発が進んでいる。今回は、短波長光源に焦点をあて光源と波長及び波長にマッチした革新的な微細構造体開発やその応用についての紹介を頂きました。また、放射光（軟X線領域）やガンマ線領域における最新の技術革新についても紹介して頂きました。また、ご講演の後、参加者との質疑応答を通して相互の理解を深めることができました。
講演内容	1. 「エキシマランプを用いたポリマー表面処理と応用事例」	事業統括本部	伊藤寛泰氏
	UV-C / 真空紫外光と呼ばれる短波長UV（エキシマランプ）を用いたポリマー表面の洗浄・改質技術、またその応用事例についてご紹介頂いた。エキシマランプ処理の基本的特徴から実用面でのメリットについて詳しくご講演頂いた。
	２．「革新的なモノづくりと分子接合技術」	岩手大学	八甫谷明彦氏
	分子接合技術は、2官能性化合物X（分子接合剤）を用いて、材料Aと材料B間を共有結合で接合する技術である。本技術を応用することにより、プロセスとプロダクトのイノベーションを生み出すことが期待でき、材料依存性、接合条件依存性、及び環境依存性を軽減することができる。共有結合で強固に接合できる分子接合技術の概要及びプロセス変革と製品の付加価値を生み出すエレクトロニクス分野での適用事例についてご講演頂いた。
	３．「医用LIGAプロセスの研究開発」	兵庫県立大学	内海裕一氏
	先端産業を支える各種マイクロ部品の開発において高機能化、高集積化が進み、数μm～数100μmレベルの3次元構造体の作製が重要である。また、高感度かつ迅速な小型の分析ステムが医療現場などで求められ、分析に必要な単位化学操作をオンチップで行なえるマイクロ化学システムが注目されている。講演者が開発しているLIGAプロセスとそれを用いた３次元的なマイクロ流体回路の構築を通した種々の環境阻害物質やマウス免疫グロブリン等の高感度測定への適用例など詳しく紹介頂いた。
	４．「準単色・偏極ガンマ線の発生と利用研究」	兵庫県立大学	宮本修治氏
	レーザー・コンプトン散乱(LCS)ガンマ線源とその特徴を紹介頂いた後、このガンマ線を使った放射性廃棄物処理や医療応用のための核変換研究や光核反応の国際核物理共同研究などの紹介を頂いた。ガンマ線は物質の相互作用で、高効率に陽電子を発生することから、近年高速陽電子を用いた、固体中の空孔欠陥検査への応用が始まっている。ニュースバル放射光施設における、ガンマ線ビームの発生とその特徴、これを用いた光核反応研究や陽電子利用について詳細に紹介頂いた。

総会・第２２６回講演会
日　時	平成３０年４月１９日（木）13：00～17:00
場　所	東京理科大学　森戸記念館
総　会	平成29年度事業報告および決算収支報告の承認。平成30年度事業計画および予算の決議。
第226回講演会	『次世代リソグラフィ技術の展開』のテーマの下に次の3件の講演があり、詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
	◆ 13：30～14：30 「先端フォトレジスト技術」	ＪＳＲ	丸山　研氏
	EUVレジストを中心に、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。歴史的なレジスト材料を俯瞰し、金属レジストなどの最近の研究動向、将来展望を概説していただいた。
	◆ 14：40～15：40 「半導体量産用ナノインプリントリソグラフィ技術の開発」	キヤノン	伊藤　俊樹氏
	20nm以下の微細パターン形成技術として、半導体量産用のナノインプリント技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。該社が開発を進めている半導体量産用のナノインプリント技術とそれに必要なレジスト材料について、最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただいた。
	◆ 15：50～16：50 「ＥＵＶリソグラフィの課題と今後の展開」	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	ＥＵＶリソグラフィについて、ハードウェア（露光機）、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、光源開発などのさらに改良が必要な課題も残されている。本講演では、このような状況の中で、技術開発の現状および今後の展望について概説していただいた。

第２２７回講演会（活動報告）
日　時	平成３０年６月７日（木）　13：00～17：00
場　所	東京理科大学　森戸記念館
テーマ	『光重合性化合物と機能性材料への応用』
	光重合性材料は幅広い分野で使われているが、高機能化を進める上で新規な光重合性材料登場への期待は大きい。本講演会では光酸発生剤、光塩基発生剤といった光開始系と光硬化を利用した高屈折率材料について、詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
講演内容	1. 「ターアリーレン系フォトクロミック分子の高感度化と酸発生剤への展開」	奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科	河合壯氏
	フォトクロミック分子のジアリールエテンのπ共役系を拡張したターアリーレンは、分子構造によりほぼ１００％の光反応量子収率を示すなど高性能化が可能である。本講演では高感度光酸発生剤や放射線検出機能などについて最近の研究成果についてご講演頂いた。
	２．「光架橋による有機無機ハイブリッドの創成と高屈折率材料への応用」	京都工芸繊維大学　分子科学系	松川公洋氏
	高屈折率無機ナノ物質を含んだ有機無機ハイブリッド材料は、ディスプレイ等に不可欠な光学薄膜に有効である。本講演では、シルセスキオキサンや無機酸化物ナノ粒子を含有する有機無機ハイブリッド材料を光架橋で作製し、屈折率を制御した透明薄膜へ応用した研究成果についてご講演頂いた。
	３．「ジアリルフルオレン/ポリシランブレンド膜の高屈折率光硬化膜の調製とその屈折率制御」	大阪府立大学大学院工学研究科	岡村晴之氏
	ジアリルフルオレンやポリシランの高屈折率性を利用した光硬化膜の調製と、ポリシランの光分解性を利用した光硬化膜の屈折率制御について、光開始剤の選択や照射波長の観点から詳しくご講演頂いた。
	４．「光塩基発生剤を用いたＵＶアニオン硬化と応用事例」	富士フイルム和光純薬株式会社試薬化成品研究所	酒井信彦氏
	工業的に生産され徐々に普及が進み始めている光塩基発生剤（PBG：Photo base generator）は、ラジカルや強酸を活性種とする既存のUV硬化系には見られない様々な特長を有している。本講演では、PBGの選定法および硬化できる樹脂の種類について応用事例を交えてご講演頂いた。

第２８回フォトポリマー講習会
日　時	平成３０年８月２８日－２９日
場　所	東京理科大学　森戸記念館
	基礎編、応用編に分けて２日間９件の講演が行われた。第１日目の最終プログラムとして統括討議と懇親会が実施された。懇親会では参加者と講師の先生方ほぼ全員が出席し、ビールを飲みながら和気藹々とディスカッションや名刺交換を行い、よい雰囲気であった。構成はフォトポリマーを網羅し、かつ、応用編ではノウハウに関わるお話まであり本講習会に出席すればフォトポリマーの全貌が理解できる内容であった。
Ⅰ.基礎編	１．フォトポリマーの光化学	大阪府立大学	岡村晴之氏
	フォトポリマーについて考えるためには、一般的な光化学の概念を基礎とするも、その他に有機化学や生化学の概念も必要となってくる。本講演では、光吸収や分子の励起、エネルギーや電子の移動、増感反応等基礎的な光化学と、それらを実際にフォトポリマーに活用した幾つかの具体例を解説していただいた。
	２．フォトポリマーの材料設計	信州大学	上野　巧氏
	感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合ではその材料設計が異なる。塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点を解説し、感光材料の設計を考察した。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像についても解説していただいた。
	３．光酸発生剤の基礎	サンアプロ（株）	白石篤志氏
	光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介していただいた。
	４．フォトポリマーの特性評価	リソテックジャパン（株）	関口　淳氏
	フォトポリマーを設計、開発、使用する上で必要な特性評価について概説していただいた。特に近年リソグラフィにとって重要な化学増幅型レジストについて、①脱保護反応の評価、②現像中のレジスト膨潤の評価、③PAGからの酸発生挙動の評価、④PAGからの酸の拡散挙動の評価を中心に詳しく解説していただいた。
Ⅱ.応用編	５．微細加工用レジスト	兵庫県立大学	渡邊健夫氏
	ＬＳＩの微細加工は、レジスト材料の発展によって支えられてきた。本講演では、レジスト材料開発の歴史と、波長別レジスト材料について紹介し、今後の最先端半導体加工技術としてEUVLなどの展望も解説していただいた。あわせて、兵庫県立大学のEUVレジスト研究施設を紹介し、さらに、レジスト開発状況についても説明していただいた。
	６．コーティング分野におけるモノマーとフオトポリマーの役割と設計思想	荒川化学工業（株)	冨樫　晴久氏
	光硬化を利用したコーティングはディスプレイや光学フィルムを製造する際に欠かせない技術である。重合活性基を有する様々なモノマーと、それらを変性したオリゴマー、光開始剤の特性と基本的な組み合わせ例を紹介していただいた。
	７．ウエハーコート用感光性耐熱材料	日立化成デュポンマイクロシステムズ（株）	大江匡之氏
	半導体の保護膜などに用いられている感光性耐熱材料について、ポリイミド(PI)およびポリベンゾオキサゾール(PBO)系の材料を中心に概説した。ポリイミドの光化学、具体的な感光材料、次世代に向けた、低温硬化材料などへの取り組みを紹介していただいた。
	８.光硬化型接着剤の概要と光アニオン硬化、光硬化型黒色接着剤	（株）スリーボンド	大槻直也氏
	アニオンUV硬化を中心に、ラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理および接着剤分野におけるそれぞれの効果方法の長所と短所を解説していただいた。また、（株）スリーボンド社の製品を中心に、各硬化方法を利用した種々の接着剤製品を紹介していただいた。
	９．トピックス　黎明期からのリソグラフィの進化：悠久のレジスト材料開発	フォトポリマー懇話会／神奈川大学	鴨志田洋一氏
	現在の情報化社会はマイクロエレクトロニクス(ME)の進化に支えられている。MEはリソグラフィ技術の結晶であり、リソグラフィの進歩は露光装置をはじめとするハードウェア、レジスト材料、プロセス技術開発など日本が発展期を牽引してきた。特にレジスト材料開発に関しては、発展期から現在に至るまで日本の材料メーカーが中心となって推進してきている。ゴム系ネガ型フォトレジストからg線/i線ノボラック系レジスト、エキシマレーザ化学増幅型レジストまで材料開発の歴史の光と陰を振り返り、さらに今後の材料開発を展望した。

第２２８回講演会（活動報告）
日　時	平成３０年１０月１１日　１３：００～１６：５５
場　所	東京理科大学　森戸記念館
テーマ	『分子性材料の基礎とフォトレジスト』
	フォトレジストは分子レジスト材料や誘導自己組織化(DSA)材料へ展開されており、分子性材料の実用化例となっており今後の展開が興味深い。本講演会では分子性材料の概念を振り返り、今後の展開とフォトレジストでの最近の進展について、詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
講演内容	1. 「誘導自己組織化(DSA)レジストの展開」	NTT物性科学基礎研究所	山口徹氏
	ブロックコポリマーを用いた自己組織化は、フォトリソグラフィー技術と融合し、誘導自己組織化(DSA)技術を生み出した。本講演では、多くの参考文献に基づき、これらのDSAレジスト開発を概観し、誘導自己組織化と欠陥の問題や大量生産への課題などの技術的展開について最近の研究成果について、ご講演を頂いた。
	２．「極端紫外線リソグラフィー用レジスト材料の分子設計」	関西大学　化学生命工学部	工藤宏人氏
	低分子材料によるラダー型環状オリゴマーなどを基盤とした次世代分子レジスト材料の開発が注目されている。本講演では、環状オリゴマー、高分岐ポリアセタール、テルル含有材料、タンニン酸誘導体などの極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィーレジスト材料について詳しくご講演頂いた。
	３．「デンドリティックフォトポリマーの構築と特性評価」	東京理科大学　理学部	青木健一氏
	クリック反応を組み合わせた簡便なデンドリマーの大量合成法を見出し、これを基盤にエン・チオール系ＵＶ硬化材料や塩基増殖性フォトポリマー、光架橋性デンドリティックフォトポリマーなどへの展開について詳しくご講演頂いた。
	４．「分子性材料の基礎と将来」	東北大学　多元物質科学研究所	芥川智行氏
	機能性分子集合体、分子性導体・分子磁性体・分子性強誘電体、分子性強弾性体など分子性材料の実現が本格化している。本講演では分子性材料の概念について解説するとともに、分子デバイスをめざした次世代の多重機能性複合材料の開発について、分子集合体の物性化学を基盤として、発光センサ材料やゲスト吸脱着材料、有機塩の誘電応答、有機結晶の熱による結晶ジャンプ挙動など幾つかの事例を交えてご講演頂いた。

第２２９回講演会（活動報告）
日　時	平成３１年１２月６日（木）　１３：００～１６：５０
場　所	東京理科大学　森戸記念館
テーマ	『フレキシブルエレクトロニクス』
	IoT時代を迎え、電子デバイスが身に着けている事を忘れるほど小さなサイズになってきている。従来のリジッドからフレキシブルやストレッチャブルと言った柔軟で体にフィットする新しい技術が必要となっている。本講演会では、これら電子デバイスを支える技術及び将来の電子デバイスの可能性を含めたご紹介を頂き、ご講演の後，参加者との質疑応答を通して理解を深めることができた。
講演内容	1. 「産業応用を見据えた有機半導体材料の開発戦略」	東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻	岡本　敏宏氏
	有機半導体材料はシリコンに代表される無機半導体材料と比べて、安価、軽量、低環境負荷、機械的柔軟性の特長を持ち、有機トランジスタをはじめとするプリンテッド・フレキシブルエレクトロニクスへの期待が益々高まっている。講演者が最近開発したp型およびn型有機半導体分子群をわかりやすく紹介頂いた。また、講演者が取り組んできた有機半導体材料の開発戦略についても紹介頂いた。
	２．「フレキシブル・プリンテッド有機エレクトロニクスの基盤研究と応用展開」	山形大学　有機エレクトロニクス研究センター	時任　静士氏
	IoT社会の到来に合わせて膨大なセンサがヘルスケア、医療、物流、農業、自動車用途として手頃な価格で製造する必要がある。本講演では、金属導電体や有機半導体の機能性インク、印刷技術の特徴、有機薄膜トランジスタ、集積回路、圧電素子などのデバイス、その具体的な応用まで、この分野に関わる最新技術を詳しくご紹介頂いた。。
	３．「液晶性を活用した有機半導体の大面積薄膜作製プロセスと応用」」	東京工業大学科学技術創成研究院　未来産業技術研究所	飯野　裕明氏
	可溶性の低分子結晶材料は、高移動度の有機半導体材料として期待されているが、溶液プロセス適合性がなく、大面積に平坦性が高く、特性のそろった電子デバイスを作製することが困難であった。本講演では、液晶性を活用した液晶性有機半導体材料の多結晶薄膜の製膜プロセスとその有機薄膜トランジスタ応用について詳しくご講演頂いた。
	４．「フォトシンタリング型Cuナノインクによる有機フィルム上での導電パターンの形成」	石原ケミカル株式会社　第三研究部　開発一課	南原　聡氏
	あらゆるモノがインターネットでつながるIoT(Internet of Things)において、センサーは、軽く、薄く、曲げられるという特性が求められる。そこで、印刷法を用いて回路形成するプリンテッドエレクトロニクスが注目されている。本講演では、ナノインクを用いて、印刷法により回路パターンを形成し、フラッシュランプを用いて、大気下、短時間でCu回路を形成するフォトシンタリング法の紹介を頂いた。

第２３０回講演会（活動報告）
日　時	平成３１年１月２５日（金）　１３：００～１７：００
場　所	大阪市立大学　文化交流センター
テーマ	『光機能性材料の最近の進歩』
	「光機能性材料の最近の進歩」について、フォトポリマーの基礎から応用までを講演していただいた。4人の講演者全員が企業の方である点も今回の特徴であった。光機能性材料の最近の進歩に関する詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
講演内容	1. 「最新ディスプレイの現状と課題および材料開発について」	メルクパフォーマンスマテリアルズ（株）	野中　敏章氏
	LCDとOLEDが取り組む高精細化技術や色再現性技術および最近注目されているマイクロLEDを使ったディスプレイモードの課題などから必要とされる材料開発の現状についてご講演を頂いた。
	２．「脂環式エポキシ樹脂の特性と応用例」	（株）ダイセル	鈴木　弘世氏
	脂環式エポキシ樹脂は、密着性・電気特性・耐熱性・反応性に優れることから接着剤、塗料、電気、電子材料に多く利用されている。本講演では、脂環式エポキシ樹脂の性状、硬化物物性の紹介及び用途展開についてご講演を頂いた。
	３．「近赤外光（NIR）に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」	サンアプロ（株）	白石　篤志氏
	フォトポリマーに用いられる材料の多様化に伴って、求められる光源の波長は従来の紫外光領域から、極端紫外光領域～可視光領域、さらに波長が長い近赤外光領域（NIR）に広がりを見せている。今回近赤外光（NIR）に感光する開始剤とこれを用いるフォトポリマーへの応用について詳しくご講演頂いた。
	４．「UV硬化組成物におけるモノマー、オリゴマーの選択について」	大阪有機化学工業（株）	猿渡　欣幸氏
	UV硬化技術はエレクトロニクス、印刷、自動車など様々な分野に応用されている。それぞれの分野で様々な解決課題があり、モノマーやオリゴマー、開始剤等の選択が重要な役割を担う。本講演では解決課題別にモノマーやオリゴマーの選択についてご講演頂いた。

総会・第２２０回講演会
日　時	平成２９年４月２０日（木）13：00～17:00
場　所	東京理科大学　森戸記念館
総　会	平成28年度事業報告および決算収支報告の承認。平成29年度事業計画および予算の決議。
第220回講演会	『次世代リソグラフィ技術の展開』のテーマの下に次の3件の講演があり、詳細なご講演の後、参加者と質疑応答を実施し、理解を深めることができた。
	◆ 13：30～14：30 「ＥＵＶリソグラフィの課題と今後の展開」	兵庫県立大学	渡邊　健夫氏
	ＥＵＶリソグラフィについて、ハードウェア（露光機）、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、光源開発などのさらに改良が必要な課題も残されている。本講演では、このような状況の中で、技術開発の現状および今後の展望について概説していただいた。
	◆ 14：45～15：50 「半導体量産用ナノインプリントリソグラフィ技術の開発」	キヤノン	伊藤　俊樹氏
	20nm以下の微細パターン形成技術として、半導体量産用のナノインプリント技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。該社が開発を進めている半導体量産用のナノインプリント技術とそれに必要なレジスト材料について、最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただいた。
	◆ 16：00～17：15 「自己組織化（ＤＳＡ）技術の最前線題」	名古屋大学	高野　敦志氏
	20nm以下の微細パターン形成技術として、自己組織化(DSA)技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。ブロック共重合体の自己組織化に焦点を当て、そのモルフォロジー、構造サイズの制御など基礎的な知見を中心に、最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただいた。

第２２１回講演会
日　時	平成２９年６月８日（木）　13：00～17：00
場　所	東京理科大学　森戸記念館
テーマ	『光重合性材料の最近の進歩』
	光重合性材料は、光源の進化、新たな用途開発が進む中で活発に研究が行われ、日々進歩してきている。今回は、光重合開始剤、重合性モノマーの開発に取り組まれている研究者４名の方に、ご講演頂いた。
講演内容	◆ 13：00～13：50 「光開始剤と周辺材料」	株式会社ADEKA	佐藤　直美氏
	UV-LED光源向けの各種開始剤（光ラジカル開始剤、光カチオン開始剤、酸発生剤）、ディスプレイ向けフォトレジスト用ラジカル開始剤について、わかりやすく解説して頂きました。さらに、加熱で露光波長（365nm）の光吸収が低下する酸化防止剤について紹介頂きました。
	◆ 14：00～14：50 「NIR（近赤外光）に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」	サンアプロ株式会社	白石　篤志氏
	フォトポリマーに用いられる材料の多様化に伴い、要求される光源の波長は従来の紫外光領域から、極端紫外光領域～可視光領域、さらに波長が長い近赤外光領域（NIR）に広がりを見せている。本講演では、NIR（近赤外光）に感光する開始剤とフォトポリマーへの応用について、基礎的な事項からわかりやすく講演頂いた。
	◆ 15：05～15：55 「脂環式エポキシ樹脂の特性と応用例」	株式会社ダイセル	鈴木　弘世氏
	脂環式エポキシ樹脂は、密着性・電気特性・耐熱性・反応性に優れることから接着剤、塗料、電気、電子材料に多く利用されている。本講演では、脂環式エポキシ樹脂の性状、硬化物物性の紹介及び用途展開について概説して頂いた。
	◆ 16：05～16：55 「環境・安全に配慮した新規水溶性硬化材料」	富士フイルム株式会社	水谷　一良氏
	同一分子内に複数の重合性基を有する多官能モノマーは、そのほとんどが水に難溶で有機溶媒にしか溶解しない。本講演では、従来困難とされてきた「硬化性」「水溶性」「安定性」「安全性」の４つの基本特性を高いレベルで実現した新規水溶性多官能アクリルアミドモノマーについて、その基本特性と応用について概説した。