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会告


《２０２４年度総会》

日　時 ：
２０２４年４月２５日（木）１３：００～１３：２０
場　所 ：
オンライン開催（Zoom）
議　事 ：
1.2023年度事業報告承認の件
2.2023年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3.2024年度事業計画および予算案承認の件
4.その他

《第２５８回講演会》

日　時 ：
２０２４年４月２５日（木）１３：３０～１７：００
会　場 ：
オンライン開催（Zoom）
テーマ ：
『次世代リソグラフィ技術の展開』

[趣旨]
次世代リソグラフィ技術（１件）、レジストの技術動向（２件）について講演を企画しました。半導体は国家安全保障や経済安全保障上重要な技術です。この中で、リソグラフィ技術は重要な技術であり、EUV リソグラフィ技術、レジストの材料・プロセス技術量産の最新動向および今後の展開について解説頂く。また、ご講演の後、ブレイクアウトルームで参加者と質疑応答を実施し、理解および交流を深めていただく。

[参加費]
会　員 ： 無料（オンライン開催は人数制限なし）
非会員 ： ３,０００円　　学生 ： ２,０００円　（4月18日（木）までにお振り込みください）
テキストはダウンロード方式とします。

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください（4月18日（木）締切）

【プログラム】
１.
13：30
　～14：30		 「EUVリソグラフィの現状と課題」
兵庫県立大学 渡邊　健夫　氏
EUVリソグラフィ（EUVL）技術は2019年より量産適用された。先端半導体製造では前工程の素子の３次元構造、並びに後工程の３次元実装が重要な技術となっている。前工程の微細加工技術ではIRDSのロードマップによると0.7 nm世代までEUVLが量産適用されることになっている。さらなる微細化に向けて、様々な技術課題がある。この技術の現状およびそれを取り巻く環境、並びに次世代のリソグラフィも含めた今後の展開について紹介していただく。
【 休　憩（10分）】
２.
14：40
　～15：40		 「EUVLレジストプロセスの最新動向」
大阪大学 産業科学研究所 古澤 孝弘　氏
EUVレジストを中心に、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。現世代の材料ではレジスト主要性能である解度・ラフネス・解像度間のトレードオフ関係の打破が最大の課題であった。次世代では確率統計欠陥の抑制が最大の課題となっている。これらの課題解決に向けた最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただく。
【 休　憩（10分）】
３.
15：50
　～16：50		 「先端感光性材料の現状と今後」
東洋合成工業(株) 榎本 智至　氏
感光材を主力製品としてフォトレジスト材料の製品開発を行っている該社では、品質要求の最も厳しい最先端のＥＵＶ（極紫外線）レジスト向けの感光材においてもニーズに応える製品供給に注力している。今後のレジスト材料開発を進めるうえでの研究課題、将来展望などを含めて概説していただく。
次世代メタルレジスト材料として、スズを含むレジストの開発が期待されている。本講演では、高分子側鎖に有機スズ化合物を持つEUVレジストを用いた電子線パルスラジオリシス法と、ガンマラジオリシス法を用いた生成物分析によるスズ化合物の放射線化学反応解析についても報告していただく。
４.
16：50
　～17：00		 ブレイクアウトルーム
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《協賛講演会》 ＝第１８４回ラドテック研究会講演会＝

期　日 ：
２０２４年４月２５日（木）１３：００～１６：４０
会　場 ：
東京理科大学神楽坂キャンパス1号館　17階　記念講堂
主　催 ：
一般社団法人ラドテック研究会
【プログラム】
１.
13：00
　～13：50
質疑応答含む		 「サーキュラーエコノミー時代の再生可能接着剤」
物質・材料研究機構 内藤 昌信　氏
２.
13：50
　～14：40
質疑応答含む		 「半導体ナノ結晶を用いた難分解性化学物質の温和な光分解」
立命館大学 小林 洋一　氏
【　14：40～15：00 　休憩　】
３.
15：00
　～15：50
質疑応答含む		 「紫外放射照度計の JCSS 校正と”UV-LED 用照度計”による高精度な測定環境の提供」
（株）オーク製作所 宮坂 勝也　氏
４.
15：50
　～16：40
質疑応答含む		 「「Hot Lithography」技術のご紹介」
Cubicure GmbH コルマンツ・セバスチャン　氏
【　17：00～18：30 　懇親会　】

※プログラムは変更になる場合がございます

[１．参 加 費]
10,000円（協賛団体ご所属の方）

[２．申込方法]
研究会HP（http://www.radtechjapan.org/20240425/）よりお申し込み下さい。

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《第２５９回講演会》

日　時 ：
２０２４年６月１３日（木）１３：００～１７：００
会　場 ：
オンライン開催（Zoom）
テーマ ：
『パターニング材料・技術の新展開』

[趣旨]
電子材料、印刷、接着、医療など幅広い産業に利用されるフォトポリマーは、社会や市場のニーズに応えるため、より高度な機能や技術が求められております。そのため、新しいパターニングや光応答性材料に関連する技術も次々に提案され、基礎検討や社会実装に向けたアプローチが進められています。今回、「ナノ結晶パターニング、偏光UVアシスト蒸着重合、光細胞操作、プリンテッドエレクトロニクス」に関する新技術についての4件の講演を企画しました。

[参加費]
会　員 ： 無料（オンライン開催は人数制限なし）
非会員 ： ３,０００円　　学生 ： ２,０００円　（6月6日（木）までにお振り込みください）
テキストはダウンロード形式とします

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください（2024年6月6日（木）締切）。


【プログラム】
１.
13：00
　～13：50		 「モノマーの光重合によるナノ結晶のパターニング」
京都工芸繊維大学 中西 英行　氏
近年、合成技術の発達により、様々な機能を持った金属や無機のナノ結晶が合成されるようになった。それらの機能を有効に利用するためには、ナノ結晶をパターニングすることが必要となる。素材をパターニングする方法は既に数多くあるが、最近、講演者らは、これまでの技術とは異なったやり方で、ナノ結晶をポリマーフィルムにパターニングする方法を独自に研究・開発してきた。本講演では、講演者らが提案するパターニング方法の原理や特長、課題について、わかりやすく紹介したい。
＜キーワード＞金属・無機ナノ結晶、光硬化性樹脂、パターン光照射、重合反応
【　休憩（10分） 】
２.
14：00
　～14：50		 「偏光UVアシスト蒸着重合による螺旋配向高分子半導体薄膜」
静岡大学 久保野 敦史　氏
真空中で加熱気化させたモノマーを基板上で反応させることで高分子薄膜を作製する蒸着重合法を応用し、成膜時に偏光紫外光をさせることで光異性化を生じさせて高度に配向された高分子薄膜を作製することができる。この偏光UVアシスト蒸着重合法を用いて、成膜時に偏光方向を変化させることで螺旋配向したポリアゾメチン薄膜の作製を試みた。円二色性スペクトル等の解析から、任意の螺旋の向きを有する薄膜をこの手法で作製できることが明らかになった。
＜キーワード＞高分子薄膜、蒸着重合、偏光紫外光、螺旋構造、CDスペクトル
【　休憩（10分） 】
３.
15：00
　～15：50		 「フォトポリマーが拓く新しい光細胞操作技術」
産業技術総合研究所 須丸 公雄　氏
光は、対象に対して局所的・遠隔的・即時的に作用させることができる優れた制御手段である。近年の光エレクトロニクスの急速な伸展と産業化によって、光制御とはこれまであまり縁のなかった化学やバイオの分野においても、こうした発想に基づく新しい技術の開発が活発に進められてきている。本講演では、光水溶化や光ゾル-ゲル転移をはじめとする様々な光応答物性変化を有するポリマー材料と、光細胞操作技術を含むそれらのバイオ応用について、我々の研究を中心にご紹介させていただきたい。
＜キーワード＞光細胞操作、光水溶化、光ゾル-ゲル転移
【　休憩（10分） 】
４.
16：00
　～16：50		 「プリンテッドエレクトロニクスの新展開」
物質・材料研究機構 三成 剛生　氏
プリンテッドエレクトロニクスでは、これまで主に使われていた銀ナノ粒子インクから、銅をベースとした金属インクへと転換期を迎えている。物質・材料研究機構で開発し、NIMS発ベンチャー企業プリウェイズから社会実装を進めている新材料・技術について報告する。
＜キーワード＞プリンテッドエレクトロニクス、金属ナノ粒子インク、金属錯体インク

フォトポリマー懇話会の活動写真