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《第２３０回講演会》

日　時 ：
２０１９年１月２５日（金）１３：００～１７：００
会　場 ：
大阪市立大学　文化交流センター
テーマ ：
『光機能性材料の最近の進歩』

[参加費]
会　員 ： １社２名まで無料（要、会員証呈示）
非会員 ： ３,０００円（当日受付にて）　　学生 ： ２,０００円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局（０４３－２９０－３４６０）まで。

【プログラム】
1. 13：00～13：50 「最新ディスプレイの現状と課題および材料開発について」
メルクパフォーマンスマテリアルズ（株） 野中 敏章　氏
LCDとOLEDが取り組む高精細化技術や色再現性技術および最近注目されているマイクロLEDを使ったディスプレイモードの課題などから必要とされる材料開発の現状について解説したいと思います。
＜キーワード＞液晶、OLED、マイクロLED、フレキシブルディスプレイ、酸化物半導体、高精細、色域
2. 14：00～14：50 「脂環式エポキシ樹脂の特性と応用例」
（株）ダイセル 鈴木 弘世　氏
脂環式エポキシ樹脂は、密着性・電気特性・耐熱性・反応性に優れることから接着剤、塗料、電気、電子材料に多く利用されている。 本講演では、脂環式エポキシ樹脂の性状、硬化物物性の紹介及び用途展開について紹介する。
＜キーワード＞脂環式エポキシ樹脂、カチオン硬化、硬化物物性（透明性、高Tg）、光源光学材料
14：50～15：10　休　憩（20分）
3. 15：10～16：00 「近赤外光（NIR）に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」
サンアプロ（株） 白石 篤志　氏
フォトポリマーに用いられる材料の多様化に伴って、求められる光源の波長は従来の紫外光領域から、極端紫外光領域～可視光領域、さらに波長が長い近赤外光領域（NIR）に広がりを見せている。今回近赤外光（NIR）に感光する開始剤とこれを用いるフォトポリマーへの応用について紹介する。
＜キーワード＞近赤外光（NIR）、開始剤、フォトポリマー
4. 16：10～17：00 「UV硬化組成物におけるモノマー、オリゴマーの選択について」
大阪有機化学工業（株） 猿渡 欣幸　氏
UV硬化技術はエレクトロニクス、印刷、自動車など様々な分野に応用されている。それぞれの分野で様々な解決課題があり、モノマーやオリゴマー、開始剤等の選択が重要な役割を担う。本講演では解決課題別にモノマーやオリゴマーの選択について紹介します。
＜キーワード＞アクリルモノマー、フォトポリマー、低収縮、速硬化、低刺激性、低粘度、リソグラフィー、UVインクジェット
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《協賛講演会》 ＝第１６０回ラドテック研究会講演会＝

主　催 ：
一般社団法人ラドテック研究会
期　日 ：
２０１９年１月２９日（火）１３：００～１７：００
場　所 ：
東京理科大学神楽坂キャンパス１号館１７階／記念講堂
＜講師と演題＞
1）13：00～13：50 「真空紫外光化学と材料表面処理」
京都大学大学院工学研究科 杉村 博之　氏
2）13：50～14：40 「電子線グラフト重合による材料創製研究」
量子科学技術研究開発機構 瀬古 典明　氏
14：40～15：00　♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
3）15：00～15：50 「減圧官能基プラズマ処理による微粒子表面への親和性機能付与技術」
株式会社電子技研 小泉　剛　氏
4）15：50～16：40 「2.5D立体複製画用UVインクジェットインク」
株式会社リコー 有田　学　氏
◆17：00～18：30 賀詞交歓会　大会議室にて

[１．参 加 費]
個人会員（本人） ： 無料
法人会員 ： （2名まで）無料　　3名から1名10,000円
非会員 ： 1名20,000円
協賛団体所属の方 ： 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集１冊を含みます。

[２．申込締切日]
2019年1月18日（金）

[３．問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL：03-6261-2750　FAX：03-6261-2751
E-mail：staff@radtechjapan.org

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《２０１９年度総会》

日　時 ：
２０１９年４月２５日（木）１３：００～１３：２０
会　場 ：
森戸記念館（東京理科大学）
議　事 ：
1.2018年度事業報告承認の件
2.2018年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3.2019年度事業計画および予算案承認の件
4.その他

《第２３１回講演会》

日　時 ：
２０１９年４月２５日（木）１３：３０～１７：００
会　場 ：
森戸記念館（東京理科大学）
テーマ ：
『次世代リソグラフィ技術の展開』

[趣旨]
次世代リソグラフィ技術とそこに展開するフォトポリマーとの係わりについて、3件の講演を企画した。現行リソグラフィの延長線上にあるＥＵＶリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィおよび先端フォトレジスト技術について概説していただく。

[参加費]
会　員 ： １社２名まで無料（要、会員証呈示）
非会員 ： ３,０００円（当日受付にて）　　学生 ： ２,０００円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局（０４３－２９０－３４６０）まで。

【プログラム】
１. 13:30～14:30 「ＥＵＶリソグラフィの課題」
兵庫県立大学 渡邊　健夫　氏
EUVリソグラフィについて、ハードウェア（露光機）、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、光源開発などのさらに改良が必要な課題も残されている。このような状況の中で、技術開発の現状について概説していただく。
【14：30～14：40　　休　憩（10分）】
２. 14:40～15:40 「EUV露光装置の現状と今後」
ASMLジャパン 宮崎　順二　氏
ASMLは次世代露光技術であるEUVリソグラフィ装置の世界唯一のメーカーで、EUVは1台1億ドル以上かかるような世界で最も高価な精密機械ともいわれる。該社が開発を進めているEUV露光装置の現状と将来展望などを概説していただく。
【15:40～15:50　　休　憩　（10分）】
３. 15:50～16:50 「先端フォトレジスト技術」
ＪＳＲ（株） 丸山　研　氏
EUVレジストを中心に、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。最近の研究動向、2023年に向けての将来展望などを含めて概説していただく。

フォトポリマー懇話会の活動写真