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会告

《2019年度総会》

日 時 :
2019年4月25日(木)13:00~13:20
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
議 事 :
1.2018年度事業報告承認の件
2.2018年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3.2019年度事業計画および予算案承認の件
4.その他

《第231回講演会》

日 時 :
2019年4月25日(木)13:30~17:00
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『次世代リソグラフィ技術の展開』

[趣旨]
次世代リソグラフィ技術とそこに展開するフォトポリマーとの係わりについて、3件の講演を企画した。現行リソグラフィの延長線上にあるEUVリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィおよび先端フォトレジスト技術について概説していただく。

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
1. 13:30~14:30 「EUVリソグラフィの課題」
兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏
EUVリソグラフィについて、ハードウェア(露光機)、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、光源開発などのさらに改良が必要な課題も残されている。このような状況の中で、技術開発の現状について概説していただく。
【14:30~14:40  休 憩(10分)】
2. 14:40~15:40 「EUV露光装置の現状と今後」
ASMLジャパン 宮崎 順二 氏
ASMLは次世代露光技術であるEUVリソグラフィ装置の世界唯一のメーカーで、EUVは1台1億ドル以上かかるような世界で最も高価な精密機械ともいわれる。該社が開発を進めているEUV露光装置の現状と将来展望などを概説していただく。
【15:40~15:50  休 憩 (10分)】
3. 15:50~16:50 「先端フォトレジスト技術」
JSR(株) 丸山 研 氏
EUVレジストを中心に、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。最近の研究動向、2023年に向けての将来展望などを含めて概説していただく。
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《協賛講演会》 =第161回ラドテック研究会講演会=

主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
期 日 :
2019年4月25日(火)13:00~17:00
場 所 :
東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階/記念講堂
<講師と演題>
1)13:00~13:50 「希土類を用いた強発光性の分子材料開発」
北海道大学大学院工学研究院 長谷川 靖哉 氏
2)13:50~14:40 「液晶高分子の光分子配向」
兵庫県立大学大学院工学研究科 川月 喜弘 氏
14:40~15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
3)15:00~15:50 「選択波長赤外線による乾燥プロセスの効率化」
日本ガイシ株式会社 近藤 良夫 氏
4)15:50~16:40 「赤外・ラマン分光法によるアクリレート硬化物の重合挙動解析」
東亞合成株式会社 木全 良典 氏
◆17:00~18:30 交流会・ミニ展示会  大会議室にて

[1.参 加 費]
個人会員(本人) : 無料
法人会員 : (2名まで)無料  3名から1名10,000円
非会員 : 1名20,000円
協賛団体所属の方 : 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。

[2.申込締切日]
2019年4月8日(月)

[3.問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL:03-6261-2750 FAX:03-6261-2751
E-mail:staff@radtechjapan.org

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《第232回講演会》

日 時 :
2019年6月6日(木)13:00~17:00
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『フォトポリマーによる微小構造形成技術の新展開』

[趣旨]
フォトポリマーの微細加工技術の広い分野への展開が進んでいるマイクロマシン技術用(MEMS)フォトレジストの最近の進歩とバイオミメティック材料など機能性デバイスへの展開について概説していただく。

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
1. 13:30~13:50 「フォトポリマーを利用した機能表面の創成と応用」
工学院大学 鈴木 健司 氏
マイクロマシン加工を利用した機能表面形成やバイオミメティクス(生体模倣)材料への展開、マイクロセンサーやモーター、マイクロロボットなどの開発について最近の研究成果を紹介する。
<キーワード>MEMS、ナノマシーン、マイクロシステム、マイクロロボット
2. 14:00~14:50 「MEMS用レジストの新展開」
日本化薬(株) 小野 禎之 氏
SU-8レジストはすでに高アスペクト、側壁の垂直パターンなどが可能なMEMS用永久膜形成材料としての地位を確立している。本講演では、さらにこれを発展させた次世代型レジストの特性や応用と課題について紹介する。
<キーワード>SU-8、MEMS、高アスペクト、垂直パターン、永久膜、熱・光連続プロセス
【14:50~15:05  休 憩 (15分)】
3. 15:05~15:55 「高規則性ポーラスアルミナを用いた光インプリントによるナノ規則表面形成と機能化」
首都大学東京 柳下 崇 氏
光ナノインプリントプロセスを用いたナノスケールで高度に幾何学構造が制御された積層型ナノ構造形成と二酸化炭素削減や省エネルギー化の実現に向けた機能性デバイスの応用について概説する。
<キーワード>ナノインプリント、陽極酸化ポーラスアルミナ、撥水・撥油、反射防止
4. 16:05~16:55 「ナノインプリント技術を利用した生体模倣材料」
名古屋工業大学 石井 大佑 氏
ナノインプリントの技術を利用した生体模倣材料、例えば、生物の微細表面構造から着想を得た超親水・超撥水化表面やナノマイクロ輸送システムなどのナノインプリント技術による形成と応用について幾つかの事例を交えて紹介する。
<キーワード>ソフトマテリアル、ナノマイクロシステム、表面微細構造

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