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会告


《第31回フォトポリマー講習会》

フォトポリマー講習会も本年で31回目の開催となりました。本年も多くの皆様により充実した内容の講習会となりますよう、お忙しい先生方にご出講いただきます。
参加者の皆様からいただきましたアンケートに基づき、フォトポリマーに関する基礎分野と、お仕事に携わり遭遇される困難の解決に繋がるお話の両方を聴ける講習会といたしました。基礎と応用を明確に線引きすることはできませんが、両方をお聴き頂きフォトポリマーの全体像をご理解いただければ幸いです。
本講習会は本年度もweb講習会で開催を予定しております。各日の最後に総括討議の時間を設定し、ご都合のつく講師の先生方にはご参加をしていただいておりますので、講演後にできなかったご質問等に活用ください。

日 時 :
2021年8月26日(木)-27日(金) 9時30分~17時
 
オンライン(Zoom)での開催
協 賛 :
(社)日本化学会

[参加費]
会員:18,000円(4名以上参加の場合は一律65,000円/会員企業)
日本化学会会員:18,000円(参加人数による特典はありません)
非会員:28,000円、学生:8,000円

[参加申込]
当ホームページ(http://www.tapj.jp)のメールフォームからお申し込み下さい。
受付後、事務局より参加方法についてご連絡いたします。
※テキストはメールフォームによる申し込み者にのみPDF配信いたします。

[締め切り]
2021年8月12日

[注意事項]
4名以上参加の場合は、代表者がフォームメールでお申し込みいただき、特記事項欄に参加者全員の氏名ならびにメールアドレスを記入してください。また不特定多数での聴講や、講習会の録画・撮影・録音はご遠慮くださいますようお願いいたします。



プログラム

【基礎編】 8月26日(木)第1日目
9:30
 ~9:35
会長挨拶
9:35
 ~11:00
「フォトポリマーの光化学」
大阪府立大学 岡村 晴之 氏
フォトポリマーについて考えるためには、一般的な光化学の概念を基礎とするも、その他に有機化学や生化学の概念も必要となってくる。本講演では、光吸収や分子の励起、エネルギーや電子の移動、増感反応等基礎的な光化学と、それらを実際にフォトポリマーに活用した幾つかの具体例を解説する。
<キーワード>光吸収、励起状態、反応中間体、増感反応
休憩(10分)
11:10
 ~12:35
「フォトポリマーの材料設計」
信州大学 上野 巧 氏
感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合ではその材料設計が異なる。塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点を解説し、感光材料の設計を考察する。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像プロセスについても解説する。
<キーワード>露光、現像、光化学反応、感度、解像度
休憩
13:30
 ~15:00
「光酸発生剤の基礎」
サンアプロ(株) 柴垣 智幸 氏
光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられているが、それら用途によって、適応する光酸発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、および組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介する。
<キーワード>光酸発生剤、カチオン重合開始剤、コーティング、フォトレジスト、カチオン重合、脱保護
休憩(10分)
15:10
 ~16:40
「フォトポリマーの特性評価」
リソテックジャパン(株) 関口 淳 氏
フォトポリマーを設計、開発、使用するうえで、あるいはその材料を扱ううえで必要な特性評価について概説する。膜厚、光量の測定、フォトレジストのリソグラフィ特性、過渡吸収と活性種同定、膜の諸物性、化学反応速度論と量子収率まで幅広い範囲の項目をほぼ網羅する。
<キーワード>化学増幅型レジスト、感度、解像度、反応メカニズム、溶解抑制剤、酸発生剤
16:40
 ~17:10
総括討議

【応用編】 8月27日(金)第2日目
9:30
 ~10:45
「微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術」
兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏
LSIの微細加工は、レジスト材料の発展によって支えられてきた。本講演では、レジスト材料開発の歴史と、波長別レジスト材料について述べる。
<キーワード>ノボラックレジスト、KrFレジスト、ArFレジスト、EUVレジスト、自己組織化
休憩(10分)
10:55
 ~12:10
「コーティング分野におけるモノマーとフォトポリマーの役割と設計思想」
荒川化学工業(株) 冨樫 春久 氏
光硬化を利用したコーティングはディスプレイや光学フィルムを製造する際に欠かせない技術である。重合活性基を有する様々なモノマーと、それらを変成したオリゴマー、光開始剤の特性と基本的な組み合わせ例を紹介する。
<キーワード>紫外線硬化、アクリルモノマー、アクリルオリゴマー、応力緩和、機能性コーティング
休憩
13:10
 ~14:30
「感光性耐熱材料の最近の進歩」
東レ(株) 富川 真佐夫 氏
感光性ポリイミド、感光性ポリベンゾオキサゾール(PBO)はファンアウト型パッケージの再配線材料への展開が進められている。ここでの銅配線との密着、マイグレーション耐性、高温放置耐性、低温硬化に向けた取り組みなどについて紹介する。さらに、低誘電率化・低誘電損失化などの今後の開発動向についても解説する。
<キーワード>ポリイミド、PBO、銅配線、マイグレーション耐性、高温放置耐性、低誘電損失
休憩(10分)
14:40
 ~16:00
「光硬化型接着剤および光アニオン硬化の接着剤への活用」
(株)スリーボンド 大槻 直也 氏
アニオンUV硬化を中心に、ラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理および接着剤分野におけるそれぞれの硬化方法の長所と短所を解説する。また、スリーボンド社の製品を中心に、各硬化方法を利用した種々の接着剤製品を紹介する。
<キーワード>光硬化、ラジカル、カチオン、アニオン、接着
休憩(10分)
16:10
 ~17:10
「トピックス フォトレジストの分析技術~薄膜の化学構造解析を中心に~」
(株)東レリサーチセンター 萬 尚樹 氏
フォトレジストの露光・現像プロセスにおける化学構造変化を把握するための分析法は限られているが、近年の分析技術の進歩により、得られる情報量が多くなってきた。GCIB-TOF-SIMSによる化学増幅型レジストの深さ方向分析では、PAGの分布や酸の拡散挙動、脱保護反応を明確にとらえることができる。本講演では、フォトレジストの薄膜での分析事例を中心に、最近の分析技術について解説する。
<キーワード>TOF-SIMS、GCIB、FT-IR、nanoESI、拡散挙動、レジスト
17:10
 ~17:40
総括討議
会告

《第245回講演会》

日 時 :
2021年10月19日(火)14:00~17:00
会 場 :
オンライン(Zoom)での開催
テーマ :
『ビッグデータと人工知能による材料開発』

[趣旨]
材料科学と人工知能(AI)を組み合わせたマテリアルズインフォマティクス(MI)が今後は重要になる。近年、ビッグデータの出現、ネットワーク・アルゴリズムの進化、ハードウェアの独創的進歩により、第3次AIブームが到来しており、人間とAIとの共存が不可欠となっている。そのためには、エッジ側のインテリジェント化や、人間の脳を模倣したデバイスの開発、低電力のAIを開発することが重要となる。人間とAIとが共存する未来を創るためには、AIを発達させるためには、今我々は何をすべきかについて、MIを中心に各分野の著名な方にご講演頂く。

[参加費]
会 員 : 無料(オンライン開催は人数制限なし)
非会員 : 3,000円  学生 : 2,000円
(10月12日までにお振り込みください)

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、又は事務局poffice@tapj.jpまで(10月12日締切)。



【プログラム】
1.
14:00
 ~14:50
(講演50分)
「マテリアルズ・インフォマティクスプラットフォームの開発」
~AIは新材料を見つけることができるのか?~
長瀬産業(株) 折井 靖光 氏
MI技術により材料開発期間やコストの削減、革新的な素材の発見が実現する。AIをベースとして膨大な文献情報を読みデータを知識化する「コグニティブアプローチ」、構造や物性値の予測モデルから理論的に化合物の構造を推定する「アナリディティクスアプローチ」の手法を紹介する。長瀬産業はIBMとこれら2つのエンジンを搭載したMIプラットフォームを開発している。AI時代における半導体技術の在り方から、材料技術の重要性、新規材料発掘に手助けとなるMIの話を2020年11月にサービスを開始したMI SaaSサービスを中心に説明する。
<キーワード>マテリアルズ・インフォマティクス、コグニティブアプローチ、アナリディティクスアプローチ
【休 憩(10分)】
2.
15:00
 ~15:50
(講演50分)
「線型独立記述子生成法による解釈可能モデリング」
兵庫県立大学 藤井 将 氏
実験により得られた様々なデータから物性や機構を理解するためには、予測精度だけでなく解釈性も高いモデルを構築する必要がある。そのための方法として線型独立記述子生成(LIDG)法を紹介する。LIDG法では、記述子(説明変数)の数が少ない(スパースな)モデルが得られるだけでなく、モデルの構築段階において記述子の形の単純さ・整合性を十分配慮しながらのモデリングが可能である。
<キーワード>機械学習、マテリアルズ・インフォマティクス、スパースモデリング
【休 憩(10分)】
3.
16:00
 ~16:50
(講演50分)
「架橋型ポリシルセスキオキサン合成における分子量予測」
千葉大学 塚田 学 氏
ポリシルセスキオキサン(RSiO3/2)nは、三官能性有機アルコキシシランの加水分解重縮合反応で合成されることが多い。しかし、反応制御が難しいため、得られるポリシルセスキオキサンの分子量を予測することは、一般的には困難である。本講演では、架橋型ポリシルセスキオキサンの合成やその物性について、また加水分解重縮合反応におけるポリシルセスキオキサンの分子量予測について紹介する。
<キーワード>アルコキシシラン、ポリシルセスキオキサン、加水分解重縮合反応、分子量、ゾル、ゲル、断熱材

フォトポリマー懇話会の活動写真