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会告

《第228回講演会》

日 時 :
2018年10月11日(木)13:00~17:00
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『分子性材料の基礎とフォトレジスト』

[参加費]
会員:1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員:3,000円(当日受付にて)、学生:2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
1. 13:00~13:50 「誘導自己組織化(DSA)レジストの展開(仮)」 NTT物性科学基礎研究所 山口 徹 氏
<キーワード>自己組織化,ブロックコポリマー,集積回路,マイクロ・ナノデバイス,ナノマシーン,量子効果
2. 14:00~14:50 「極端紫外線リソグラフィー用レジスト材料の分子設計」 関西大学 工藤 宏人 氏
<キーワード>分子レジスト,環状化合物,ノーリア誘導体,テルル,LWR,超微細パターン
14:50~15:05 休 憩(15分)
3. 15:05~15:55 「デンドリティックフォトポリマーの構築と特性評価」 東京理科大学 青木 健一 氏
<キーワード>デンドリマー,水素結合,分子間相互作用,自己組織化,多段階交互付加
4. 16:05~16:55 「分子性材料の基礎と将来」 東北大学 芥川 智行 氏
<キーワード>自己組織化,光機能,超分子,錯体,ハイブリッド材料,分子モーター
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《第229回フォトポリマー懇話会・JOEM 合同講演会》

日 時 :
2018年12月6日(木)13:00~17:10
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『フレキシブルエレクトロニクス』

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
1. 13:00~14:00 「産業応用を見据えた有機半導体材料の開発戦略」
東京大学 岡本 敏宏 氏
2. 14:00~15:00 「フレキシブル・プリンテッド有機エレクトロニクスの基盤研究と応用展開」
山形大学 時任 静士 氏
15:00~15:10 休 憩(10分)
3. 15:10~16:10 「液晶性を活用した有機半導体の大面積薄膜作製プロセスと応用」
東京工業大学 飯野 裕明 氏
4. 16:10~17:10 「フォトシンタリング型Cuナノインクによる有機フィルム上での導電パターンの形成」
石原ケミカル(株) 南原 聡 氏
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《第25回ディスプレイ国際ワークショップ》

=The 25th International Display Workshops (IDW '18)=

主 催 :
映像情報メディア学会(ITE)、The Society for Information Display(SID)
会 期 :
2018年12月12日(水)~14日(金)
会 場 :
名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)

[会議用語]

英語

[参加申込み]

URL http://www.idw.or.jp/

[各種期日]

・Technical Summary 投稿締切日:
6月20日
・論文採否通知:
7月19日
・Camera-Ready 原稿締切日:
9月11日
・Late-News 予稿締切日:
10月 3日
・早期割引参加登録締切日:
11月 2日
・事前参加登録締切日:
11月30日

[問い合わせ]

IDW '18 事務局(バイリンガル・グループ内)
〒102-0074 東京都千代田区九段南3-3-6
TEL: 03-3263-1345  FAX: 03-3263-1264
E-mail: idw@idw.or.jp

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