フォトポリマー懇話会は、感光性樹脂（フォトポリマー）に関する情報を発信する学術団体です。

《２０１９年度総会》

日　時 ：

２０１９年４月２５日（木）１３：００～１３：２０

会　場 ：

森戸記念館（東京理科大学）

議　事 ：

1.2018年度事業報告承認の件
2.2018年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3.2019年度事業計画および予算案承認の件
4.その他

《第２３１回講演会》

日　時 ：

２０１９年４月２５日（木）１３：３０～１７：００

会　場 ：

森戸記念館（東京理科大学）

テーマ ：

『次世代リソグラフィ技術の展開』

[趣旨]
次世代リソグラフィ技術とそこに展開するフォトポリマーとの係わりについて、3件の講演を企画した。現行リソグラフィの延長線上にあるＥＵＶリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィおよび先端フォトレジスト技術について概説していただく。

[参加費]
会　員 ： １社２名まで無料（要、会員証呈示）
非会員 ： ３,０００円（当日受付にて）　　学生 ： ２,０００円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局（０４３－２９０－３４６０）まで。

主　催 ：

一般社団法人ラドテック研究会

期　日 ：

２０１９年４月２５日（火）１３：００～１７：００

場　所 ：

東京理科大学神楽坂キャンパス１号館１７階／記念講堂

[１．参 加 費]
個人会員（本人） ： 無料
法人会員 ： （2名まで）無料　　3名から1名10,000円
非会員 ： 1名20,000円
協賛団体所属の方 ： 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集１冊を含みます。

[２．申込締切日]
2019年4月8日（月）

[３．問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL：03-6261-2750　FAX：03-6261-2751
E-mail：staff@radtechjapan.org

《第２３２回講演会》

日　時 ：

２０１９年６月６日（木）１３：００～１７：００

会　場 ：

森戸記念館（東京理科大学）

テーマ ：

『フォトポリマーによる微小構造形成技術の新展開』

[趣旨]
フォトポリマーの微細加工技術の広い分野への展開が進んでいるマイクロマシン技術用（ＭＥＭＳ）フォトレジストの最近の進歩とバイオミメティック材料など機能性デバイスへの展開について概説していただく。

[参加費]
会　員 ： １社２名まで無料（要、会員証呈示）
非会員 ： ３,０００円（当日受付にて）　　学生 ： ２,０００円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局（０４３－２９０－３４６０）まで。