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会告

《２０２３年度総会》

日　時 ：
２０２３年４月２０日（木）１３：００～１３：２０
場　所 ：
オンライン開催（Zoom）
議　事 ：
1.2022年度事業報告承認の件
2.2022年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3.2023年度事業計画および予算案承認の件
4.その他

《第２５３回講演会》

日　時 ：
２０２３年４月２０日（木）１３：３０～１７：００
会　場 ：
オンライン開催（Zoom）
テーマ ：
『先端・次世代リソグラフィ技術』

[趣旨]
次世代リソグラフィ技術（１件）、レジストの技術動向（２件）について講演を企画しました。半導体は国家安全保障や経済安全保障上重要な技術です。この中で、リソグラフィ技術は重要な技術であり、EUVリソグラフィ技術、レジストの材料・プロセス技術量産の最新動向および今後の展開について解説頂く。また、ご講演の後、ブレイクアウトルームで参加者と質疑応答を実施し、理解および交流を深めていただく。

[参加費]
会　員 ： 無料（オンライン開催は人数制限なし）
非会員 ： ３,０００円　　学生 ： ２,０００円　（4月13日（木）までにお振り込みください）
テキストはダウンロード方式とします。

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください（4月13日（木）締切）

【プログラム】
１.
13：30
　～14：20		 「EUVリソグラフィ技術の現状およびその取り巻く環境、今後の展開」
兵庫県立大学 渡邊　健夫　氏
EUVリソグラフィ（EUVL）技術は2019年より量産適用された。先端半導体製造では前工程の素子の３次元構造、並びに後工程の３次元実装が重要な技術となっている。前工程の微細加工技術ではIRDSのロードマップによると0.7 nm世代までEUVLが量産適用されることになっている。さらなる微細化に向けて、様々な技術課題がある。この技術の現状およびそれを取り巻く環境、並びに次世代のリソグラフィも含めた今後の展開について紹介する。
【 休　憩（10分）】
２.
14：30
　～15：20		 「EUVレジストにおけるストカスティック課題に対する最新動向」
富士フイルム（株） 藤森　亨　氏
２０１９年に量産適用されたEUVリソグラフィだが、その適用レイヤーは限られており、EUVリソグラフィの発展、展開はまさにこれからである。EUVリソグラフィ発展に欠かせないフォトレジスト材料への要求課題も山積であり、その課題を解決していくことが、半導体業界発展にとって極めて重要である。本講演では、EUVレジスト特有のストカスティック課題に対する最新動向を紹介する。
【 休　憩（10分）】
３.
15：30
　～16：20		 「EUVレジストの軌跡と今後への期待」
JSR（株） 丸山　研　氏
EUVリソグラフィ時代が到来し数年が経った。EUV用フォトレジストは従来の化学増幅型レジスト(CAR)と、新たに注目されているメタルオキサイドレジスト(MOR)の2タイプに大別される。講演ではこれまでのEUVレジスト開発を振り返ると共に今後の展望について述べる。
４.
16：20
　～17：00		 ブレイクアウトルーム
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《第２５４回講演会》

日　時 ：
２０２３年６月１６日（金）１３：００～１７：００
会　場 ：
オンライン開催（Zoom）
テーマ ：
『光反応・重合技術の新展開』

[趣旨]
電子材料、印刷、接着、医療など幅広い産業に利用されるフォトポリマーは、社会や市場のニーズに応えるため、より高度な機能や技術が求められております。そのため、新しい素材、光反応・重合技術も次々に提案され、基礎検討や実用化に向けたアプローチが進められています。今回、「開始剤、光反応、光重合に関する新技術」についての4件の講演を企画しました。

[参加費]
会　員 ： 無料（オンライン開催は人数制限なし）
非会員 ： ３,０００円　　学生 ： ２,０００円
（2023年6月8日（木）までにお振り込みください）
テキストはダウンロード形式とします。

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください（2023年6月8日（木）締切）。

【プログラム】
１.
13：00
　～13：50		 「近赤外光を光源とする開始剤の検討とフォトポリマーへの応用」
サンアプロ株式会社 白石 篤志　氏
従来、フォトポリマーに用いる光源は通常高圧水銀灯など、紫外線領域の波長の光を照射するものが利用されてきた。しかし近年では環境負荷低減の観点から、ＬＥＤを光源とする硬化システムの検討が進んでいる。我々は紫外～可視光領域に吸収をもつ材料を硬化系に組み込むことを想定し、さらに長波長である近赤外光に着目しこれを用いる光硬化系の検討を行っている。本講演では、主に基礎検討を通して近赤外光を光源とするフォトポリマーへの応用可能性について触れ、用途展開に向けた課題について報告する。
＜キーワード＞近赤外光（NIR）、開始剤、ヨードニウム塩、フォトポリマー
【　休憩（10分） 】
２.
14：00
　～14：50		 「動的光重合による分子配向制御」
東京工業大学 宍戸 厚　氏
機能性フィルムの創製においては，液晶をはじめとする機能性分子の精緻な配向制御が効果的です。本講演では，新たな原理に基づく光配向法を紹介します。 空間的な強度分布を有する非偏光を用いた光重合により，簡便なプロセスで大面積一軸分子配向や二次元分子配向パターンを誘起し，光学機能や力学機能を備えた材料を一段階で創製します。
＜キーワード＞光重合，分子配向，液晶
【　休憩（10分） 】
３.
15：00
　～15：50		 「新規パーオキシドフリーレドックス重合開始剤」
三井化学株式会社 髙橋 一生　氏
一般的なレドックス重合開始剤はパーオキシドを酸化剤として用いる。例えばベンゾイルパーオキシドとアミンとの組合せは良く知られている。しかしパーオキシドは保管安定性に問題があり、パーオキシドフリーの重合開始剤の開発が求められてきた。種々検討の結果、酸化剤にサッカリン、還元剤にアミン、触媒に銅錯体を用いた重合開始剤を創出した。またラジカル種の構造を明らかにし、反応機構を提案した。
＜キーワード＞ラジカル、アクリレート、重合、レドックス、パーオキシド
【　休憩（10分） 】
４.
16：00
　～16：50		 「光オン・デマンド合成法を用いるポリマーや医薬品中間体の合成」
神戸大学 津田 明彦　氏
ホスゲンは、有機合成における重要なC1ビルディングブロックであり、ポリマーや医薬品中間体などの化学品合成原料として用いられている。しかし、極めて高い毒性を持つため、それを必要とする場所で、必要な時に、必要な量だけオンデマンド製造されている。当グループは、汎用有機溶媒のクロロホルムと酸素の混合物に光を照射する簡単な方法で、ホスゲンの光オンデマンド合成に成功した。当該光反応を用いるためのバッチおよびフロー反応システムを構築し、安全・安価・簡単かつ高効率で、ポリマーなど種々の化学品を実用スケールで合成することに成功した。
＜キーワード＞光オン・デマンド合成、クロロホルム、ホスゲン、フロー合成、ポリマー

フォトポリマー懇話会の活動写真