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《第221回講演会》

日 時 :
2017年6月8日(木)13:00~17:00
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『光重合性材料の最近の進歩』

[趣旨]
光重合性材料は、光源の進化、新たな用途開発が進む中で活発に研究が行われ、日々進歩してきている。今回は、光重合開始剤、重合性モノマーの開発に意欲的に取り組まれている研究者4名の方にご講演頂く。

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
1. 13:00~13:50 「光開始剤と周辺材料」 (株) ADEKA 佐藤 直美 氏
光硬化材料やフォトレジストのキーマテリアルである光開始剤および周辺材料について、最近の開発状況や応用例について紹介する。
<キーワード>光ラジカル開始剤、光酸発生剤、フォトレジスト、LED
2. 14:00~14:50 「NIR(近赤外光)に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」 サンアプロ(株) 白石 篤志 氏
近年、フォトポリマーに用いられる材料の多様化に伴い、要求される光源の波長は従来の紫外光領域から、極端紫外光領域~可視光領域へとその拡がりをみせている。そのような中、我々はさらに波長が長い近赤外光領域(NIR)に着目した。今回このNIR(近赤外光)に感光する開始剤とフォトポリマーへの応用について紹介する。
<キーワード>近赤外光(NIR)、開始剤、フォトポリマー
14:50~15:05 休 憩(15分)
3. 15:05~15:55 「脂環式エポキシ樹脂の特性と応用例」 (株)ダイセル 鈴木 弘世 氏
当社で製造・販売している脂環式エポキシ樹脂は、密着性・電気特性・耐熱性・反応性に優れることから接着剤、塗料、電気、電子材料に多く利用されている。本講演では、脂環式エポキシ樹脂の性状、硬化物物性の紹介及び用途展開の概略について報告する。
<キーワード>脂環式エポキシ樹脂、硬化物物性
4. 16:05~16:55 「環境・安全に配慮した新規水溶性硬化材料」 富士フイルム(株) 水谷 一良 氏
同一分子内に複数の重合性基を有する多官能モノマーは、そのほとんどが水に難溶で有機溶媒にしか溶解しない。本講演では、従来困難とされてきた「硬化性」「水溶性」「安定性」「安全性」の4つの基本特性を高いレベルで実現した新規水溶性多官能アクリルアミドモノマー(商品名:FFMシリーズ)について、その基本特性と応用について紹介する。
<キーワード>多官能アクリルアミドモノマー、水溶性、硬化性、安定性、安全性
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《協賛講演会》 =第152回ラドテック研究会講演会=

主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
期 日 :
2017年6月16日(金)13:00~16:40
場 所 :
大阪市立工業研究所/大講堂
<講師と演題>
(1) 13:00~13:50
「ポリイミド膜表面の露光部選択的修飾」 久留米高等専門学校 津田 祐輔 氏
(2) 13:50~14:40
「磨砕応答色素を用いたコンポジット薄膜の作製と機能発現」 兵庫県立大学大学院 近藤 瑞穂 氏
14:40 ~ 15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
(3)15:00~15:50
「新規光重合開始剤の開発」 日本合成化学工業株式会社 青木 康浩 氏
(4) 15:50~16:40
「ポリグリセリン骨格を有する多官能アクリレートモノマーの特性」 阪本薬品工業株式会社 名田 智美 氏

[1.参 加 費]
個人会員(本人) : 無料
法人会員 : (2名まで)無料  3名から1名10,000円
非会員 : 1名20,000円
協賛団体所属の方 : 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。

[2.申込締切日]
2017年5月19日(金)

[3.問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL:03-6261-2750 FAX:03-6261-2751
E-mail:staff@radtechjapan.org

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《協賛シンポジウム》 =2017年 P&I研究会 第1回シンポジウム=

「ストレッチャブル市場・技術の新展開」

主 催 :
(一社)日本印刷学会 技術委員会 P&I研究会
日 時 :
2017年6月16日(金)13:00~17:10(受付開始12:30)
会 場 :
富士フイルム株式会社 東京ミッドタウン本社 201会議室
(東京都港区赤坂9-7-3)
参加費 :
会員・協賛会員 7,000円
教職員・シニア会員 2,000円、学生会員 1,000円、非会員 9,000円
<プログラム>
13:00~13:40
1.生体情報センシングを目的としたストレッチャブルデバイスの市場予測 (株)矢野経済研究所 遠藤 光司 氏
13:40~14:20
2.ウエアラブルIoTによる新市場の創造・拡大(仮) (株)Phone Appli 川原 博基 氏
休 憩
14:20~15:00
3.次世代スマートアパレルe-skin
~大学発スタートアップによる伸縮性エレクトロニクスの実用化~
(株)Xenoma 網森 一郎 氏
15:10~16:00
4.IoT時代のものづくりを指向した低温硬化形導電性ペースト セメダイン(株) 岡部 祐輔 氏
16:00~16:40
5.金属トラップ材料を用いた新規MID法の開発 日立マクセル(株) 浅見 朗子 氏
16:40~17:10
名刺交換会

*詳細は(一社)日本印刷学会 まで。
TEL:03-3551-1808 FAX:03-3552-7206
E-mail:nijspst-h@jspst.org

申し込みは日本印刷学会のホームページ http://www.jspst/org/ からお願いします。

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《協賛講演会》 第42回UV/EB表面加工入門講座(東京)

期 日 :
2017年7月11日(火)9:30~17:00
会 場 :
東京理科大学神楽坂キャンパス1号館 17階 記念講堂
主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
協 賛 :
一般社団法人近畿化学協会・一般社団法人色材協会・一般社団法人日本接着学会・日本塗装技術協会・日本放射線化学会・一般社団法人有機エレクトロニクス材料研究会・フォトポリマー懇話会・合成樹脂工業協会(予定・順不同)
<講師と演題>
(1) 9:30~10:30
「UV 硬化技術総論」 大阪府立大学大学院 白井 正充 氏
(2) 10:40~11:50
「光源と光重合開始機構」 IGM ジャパン合同会社 太田 宏史 氏
12:00~13:00 ***** 昼 食 *****
(3) 13:00~14:10
「モノマーと重合挙動」 東亞合成(株) 佐内 康之 氏
14:20~14:40 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
(4) 14:40~15:40
「UV/EB 硬化プロセスの特徴と比較」 早稲田大学 鷲尾 方一 氏
(株)アイ・エレクトロンビーム 木下 忍 氏
(5) 15:50~16:50
「紫外線硬化樹脂の硬化過程の測定法」 金沢大学 瀧 健太郎 氏

《協賛講演会》 第43回UV/EB表面加工入門講座(大阪)

期 日 :
2017 年7月20日(木)9:30~17:30
会 場 :
大阪産業技術研究所森ノ宮センター/大講堂
主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
協 賛 :
一般社団法人近畿化学協会・一般社団法人色材協会・一般社団法人日本接着学会・日本塗装技術協会・日本放射線化学会・一般社団法人有機エレクトロニクス材料研究会・フォトポリマー懇話会・合成樹脂工業協会(予定・順不同)
<講師と演題>
(1) 9:30~10:30
「UV 硬化技術総論」 大阪府立大学大学院 白井 正充 氏
(2) 10:45~11:45
「UV/EB 硬化性モノマーおよびオリゴマーの設計」 荒川化学工業(株) 澤田 浩 氏
11:45~12:45 ***** 昼 食 *****
(3) 12:45~13:45
「光重合開始剤の種類と特性」 BASF ジャパン(株) 鮫島 かおり 氏
(4) 14:00~15:00
「UV 光源と照射プロセス」 へレウス(株) 河村 紀代子 氏
15:00~15:15 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
(5) 15:15~16:15
「電子線の基礎と工業利用の現状」 (株)NHV コーポレーション 岡崎 泰三 氏
(6) 16:30~17:30
「紫外線硬化樹脂の硬化過程の測定法」 金沢大学 瀧 健太郎 氏

[1.参 加 費]
個人会員(本人) : 無料
法人会員 : (2名まで)無料  3名から1名10,000円(消費税含)
非会員 : 1名20,000円(消費税含)
*協賛団体に所属されている方は下記の通りとなります。
協賛団体所属の方 : 10,000円(消費税含)
注 ・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。

[2.申込締切日]
2017年6月30日(金)

[3.問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL:03-6261-2750 FAX:03-6261-2751
E-mail:staff@radtechjapan.org

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《第27回フォトポリマー講習会》

フォトポリマー講習会も本年で27回目の開催となりました。本年もより多くの皆様により充実した内容の講習会となりますようお忙しい先生方にご出講頂きます。
参加者の皆様からいただきましたアンケートにより、フォトポリマーに関する基礎分野と、お仕事に携わり遭遇される困難の解決に繋がるお話の両方を聴ける講習会といたしました。基礎と応用を明確に線引きすることはできませんが、両方をお聴き頂きフォトポリマーの全体像を御理解いただければ幸いです。
本講習会は懇親会をプログラムとして組み入れており、ご都合のつく講師の先生方にはご出席をしていただいております。参加者の方は講演後にできなかったご質問を先生に直接伺ったり、個人的に交流を深めたりしてご活用ください。また、参加者同士の交流を深めご人脈を広げていただく機会としてもご利用ください。

日 時 :
2017年8月30日(水)・31日(木) 9時30分~17時
会 場 :
森戸記念館 第一フォーラム(東京理科大学)
定 員 :
95名
協 賛 :
(社)日本化学会

[参加費]
会員、協賛会員:30,000円
非会員:40,000円、学生:20,000円 (予稿集代含む)

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申込いただくか、FAXにて事務局(043-290-3460)までお申込下さい。

[締め切り]
2017年8月16日(要旨集作成のため)

*事前に登録証・請求書をお送りします。両日とも受付で登録証をご提示ください。要旨集、領収書をお渡しいたします。

プログラム
【基礎編】 8月30日(水)第1日目
9:30~9:35 会長挨拶
9:35~11:00 「フォトポリマーの光化学」 東京理科大学 青木 健一 氏
フォトポリマーについて考えるためには、一般的な光化学の概念を基礎とするも、その他に有機化学や生化学の概念も必要となってくる。本講演では、光吸収や分子の励起、エネルギーや電子の移動、増感反応等基礎的な光化学と、それらを実際にフォトポリマーに活用した幾つかの具体例を解説する。
<キーワード>光吸収、励起状態、ヤブロンスキー図、遷移確率、増感反応
11:00~11:10 休憩(10分)
11:10~12:35 「フォトポリマーの材料設計」 信州大学 上野 巧 氏
感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合ではその材料設計が異なる。塗布、露光、現像などのプロセスにおける留意点を解説し、感光材料の設計を考察する。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像についても解説する。
<キーワード>露光、現像、光化学反応、感度、解像度
12:35~13:30 昼食
13:30~15:00 「光酸発生剤の基礎」 サンアプロ(株) 白石 篤志 氏
光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられており、それら用途によって、適応する光発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、およびその組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介する。
<キーワード>光酸発生剤、カチオン重合開始剤、コーティング、フォトレジスト、カチオン重合、脱保護
15:00~15:10 休憩(10分)
15:10~16:40 「フォトポリマーの特性評価」 リソテックジャパン(株) 関口 淳 氏
フォトポリマーを設計、開発、使用するうえで、あるいはその材料を扱ううえで必要な特性評価を概説する。膜厚、光量の測定、フォトレジストのリソグラフィ特性、過渡吸収と活性種同定、膜の諸物性、化学反応速度論と量子収率まで広い範囲の項目をほぼ網羅する。
<キーワード>化学増幅型レジスト、感度、解像度、反応メカニズム、溶解抑制剤、酸発生剤
16:40~18:10 総括討議/懇親会

【応用編】 8月31日(木)第2日目
9:30~10:45 「微細加工用レジスト」 兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏
LSIの微細加工は、レジスト材料の発展によって支えられてきた。本講演では、レジスト材料開発の歴史と、波長別レジスト材料について述べる。
<キーワード>ノボラックレジスト、KrFレジスト、ArFレジスト、EUVレジスト、自己組織化
10:45~10:55 休憩(10分)
10:55~12:10 「コーティング分野におけるモノマーとフォトポリマーの役割と設計思想」 荒川化学工業(株) 唐澤 隆 氏
光硬化を利用したコーティングはディスプレイや光学フィルムを製造する際に欠かせない技術である。重合活性基を有する様々なモノマーと、それらを編成したオリゴマー、光開始剤の特性と基本的な組み合わせ例を紹介する。
<キーワード>紫外線硬化、アクリルモノマー、応力緩和
12:10~13:10 昼食
13:10~14:30 「ウェハーコート用感光性耐熱材料」 日立化成デュポンマイクロシステムズ(株) 大江 匡之 氏
半導体の保護膜などに用いられている感光性耐熱材料について、ポリイミド系の材料を中心に概説する。ポリイミドの光化学、具体的な感光材料、次世代に向けた、低温硬化材料などへの取り組みを紹介する。
<キーワード>感光性ポリイミド、感光性ポリベンゾオキサゾール(PBO)、再配線保護膜、光重合、低温硬化
14:30~14:40 休憩(10分)
14:40~16:00 「光硬化型 “黒色” 接着剤 ~光硬化型接着剤の進化~」 (株)スリーボンド 大槻 直也 氏
アニオンUV硬化を中心に、ラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理および接着剤分野におけるそれぞれの硬化方法の長所と短所を解説する。また、スリーボンド社の製品を中心に、各硬化方法を利用した種々の接着剤製品を紹介する。
<キーワード>光硬化、ラジカル、カチオン、アニオン、接着、着色
16:10~17:10 「トピックス 黎明期からのリソグラフィの進化:悠久のレジスト材料開発」 フォトポリマー懇話会/神奈川大学 鴨志田 洋一 氏
現在の情報化社会はマイクロエレクトロニクス(ME)の進化に支えられている。MEはリソグラフィ技術の結晶であり、リソグラフィの進歩は露光装置をはじめとするハードウェア、レジスト材料、プロセス技術開発など日本が発展期を牽引してきた。特にレジスト材料開発に関しては、発展期から現在に至るまで日本の材料メーカーが中心となって推進してきている。ゴム系ネガ型フォトレジストからg線/i線ノボラック系レジスト、エキシマレーザ化学増幅型レジストまで材料開発の歴史の光と陰を振り返り、さらに今後の材料開発を展望する。
<キーワード>リソグラフィ、ゴム系ネガ型フォトレジスト、g線/i線ノボラック系レジスト、エキシマレーザ化学増幅型レジスト

フォトポリマー懇話会の活動写真