トップページ > 会告  

会告

《協賛講演会》 =第155回ラドテック研究会=

主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
期 日 :
2018年1月25日(木)13:00~17:00
場 所 :
東京理科大学神楽坂キャンパス1号館17階/記念講堂
<講師と演題>
(1) 13:00~13:50
「安全で衛生的な床面の管理〜UVフロアコートの有用性と効果の検証」 東京都健康長寿医療センター 野田 義博 氏
(2) 13:50~14:40
「分子の気持ちで考える自己組織化 高分子材料における構造と特性相関」 熊本大学 國武 雅司 氏
14:40 ~ 15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
(3)15:00~15:50
「高充填ナノ粒子コーティング」 スリーエムジャパン株式会社 杉山 直大 氏
(4) 15:50~16:40
「UV-LEDに対応した光硬化材料」 東亞合成株式会社 大房 一樹 氏
◇17:00~18:30
交流会・ミニ展示会 大会議室にて

[1.参 加 費]
個人会員(本人) : 無料
法人会員 : (2名まで)無料  3名から1名10,000円
非会員 : 1名20,000円
協賛団体所属の方 : 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。

[2.申込締切日]
2018年1月5日(金)

[3.問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL:03-6261-2750 FAX:03-6261-2751
E-mail:staff@radtechjapan.org

会告

《第225回講演会》

日 時 :
2018年1月26日(金)13:00~17:00
会 場 :
I-siteなんば C1 
大阪市浪速区敷津東2丁目1番41号 南海なんば第1ビル2階
テーマ :
『最先端光機能材料・物性』

[参加費]
会員:1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員:3,000円(当日受付にて)、学生:2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
1. 13:00~13:50 「超分子的アプローチによる機能性分子の凝集変換と光電特性制御」 大阪大学 藤内 謙光 氏
<キーワード>蛍光発光、有機塩、電荷補助型水素結合、多孔質材料、超分子集合
2. 14:00~14:50 「光機能性有機結晶の微小フォトアクチュエータへの展開」 大阪市立大学 小畠 誠也 氏
<キーワード>フォトクロミズム、ジアリールエテン、フォトアクチュエータ、結晶材料
14:50~15:05 休 憩(15分)
3. 15:05~15:55 「表面にナノ構造を付与した固体材料の光学増強機能」 大阪市立大学 坪井 泰之 氏
<キーワード>SERS、光学顕微鏡、プラズモニクス、ブラックシリコン、微細加工
4. 16:05~16:55 「光マニピュレーションに基く分子認識の光誘導加速」 大阪府立大学 飯田 琢也 氏
<キーワード>光誘導力、バイオマテリアル、分子認識機構、ナノ粒子、DNA
会告

《平成30年度総会》

日 時 :
2018年4月19日(木)13:00~13:20
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
議 事 :
1.平成29年度事業報告承認の件
2.平成29年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3.平成30年度事業計画および予算案承認の件
4.その他

《第226回講演会》

日 時 :
2018年4月19日(木)13:30~17:00
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『次世代リソグラフィ技術の展開』

[趣旨]
次世代リソグラフィ技術とそこに展開するフォトポリマーとの係わりについて、3件の講演を企画した。現行リソグラフィの延長線上にあるEUVリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィおよび先端フォトレジスト技術について概説していただく。

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
13:30~14:30 「先端フォトレジスト技術」 JSR(株) 丸山 研 氏
EUVレジストを中心に、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただく。
14:30~14:40 休 憩(10分)
14:40~15:40 「Nanoimprint system for high volume semiconductor manufacturing (仮)」 キヤノン(株) 伊藤 俊樹 氏
20nm以下の微細パターン形成技術として、半導体量産用のナノインプリント技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。該社が開発を進めている半導体量産用のナノインプリント技術とそれに必要なレジスト材料について、最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただく。
15:40~15:50 休 憩(10分)
15:50~16:50 「EUVリソグラフィの課題」 兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏
EUVリソグラフィについて、ハードウェア(露光機)、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、光源開発などのさらに改良が必要な課題も残されている。このような状況の中で、技術開発の現状について概説していただく。

フォトポリマー懇話会の活動写真