トップページ ＞ 会告  

会告

《第２２８回講演会》

日　時 ：
２０１８年１０月１１日(木）１３：００～１７：００
会　場 ：
森戸記念館（東京理科大学）
テーマ ：
『分子性材料の基礎とフォトレジスト』

[参加費]
会員：１社２名まで無料（要、会員証呈示）
非会員：３,０００円（当日受付にて）、学生：２,０００円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局（０４３－２９０－３４６０）まで。

【プログラム】
1. 13：00～13：50 「誘導自己組織化(DSA)レジストの展開（仮）」 NTT物性科学基礎研究所 山口 徹　氏
＜キーワード＞自己組織化，ブロックコポリマー，集積回路，マイクロ・ナノデバイス，ナノマシーン，量子効果
2. 14：00～14：50 「極端紫外線リソグラフィー用レジスト材料の分子設計」 関西大学 工藤 宏人　氏
＜キーワード＞分子レジスト，環状化合物，ノーリア誘導体，テルル，ＬＷＲ，超微細パターン
14：50～15：05 休　憩（15分）
3. 15：05～15：55 「デンドリティックフォトポリマーの構築と特性評価」 東京理科大学 青木 健一　氏
＜キーワード＞デンドリマー，水素結合，分子間相互作用，自己組織化，多段階交互付加
4. 16：05～16：55 「分子性材料の基礎と将来」 東北大学 芥川 智行　氏
＜キーワード＞自己組織化，光機能，超分子，錯体，ハイブリッド材料，分子モーター
会告

《第２２９回フォトポリマー懇話会・JOEM　合同講演会》

日　時 ：
２０１８年１２月６日（木）１３：００～１７：１０
会　場 ：
森戸記念館（東京理科大学）
テーマ ：
『フレキシブルエレクトロニクス』

[参加費]
会　員 ： １社２名まで無料（要、会員証呈示）
非会員 ： ３,０００円（当日受付にて）　　学生 ： ２,０００円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局（０４３－２９０－３４６０）まで。

【プログラム】
1. 13：00～14：00 「産業応用を見据えた有機半導体材料の開発戦略」
東京大学 岡本 敏宏　氏
2. 14：00～15：00 「フレキシブル・プリンテッド有機エレクトロニクスの基盤研究と応用展開」
山形大学 時任 静士　氏
15：00～15：10　休　憩（10分）
3. 15：10～16：10 「液晶性を活用した有機半導体の大面積薄膜作製プロセスと応用」
東京工業大学 飯野 裕明　氏
4. 16：10～17：10 「フォトシンタリング型Cuナノインクによる有機フィルム上での導電パターンの形成」
石原ケミカル（株） 南原 聡　氏
会告

《第25回ディスプレイ国際ワークショップ》

＝The 25th International Display Workshops (IDW '18)＝

主　催 ：
映像情報メディア学会（ITE）、The Society for Information Display（SID）
会　期 ：
２０１８年１２月１２日（水）～１４日（金）
会　場 ：
名古屋国際会議場（愛知県名古屋市）

[会議用語]

英語

[参加申込み]

URL http://www.idw.or.jp/

[各種期日]

・Technical Summary　投稿締切日：
6月20日
・論文採否通知：
7月19日
・Camera-Ready　原稿締切日：
9月11日
・Late-News　予稿締切日：
10月 3日
・早期割引参加登録締切日：
11月 2日
・事前参加登録締切日：
11月30日

[問い合わせ]

IDW '18 事務局（バイリンガル･グループ内）
〒102-0074　東京都千代田区九段南3-3-6
TEL： 03-3263-1345　　FAX： 03-3263-1264
E-mail： idw@idw.or.jp

フォトポリマー懇話会の活動写真